粉體行業(yè)在線展覽
面議
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XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時間短,幾乎沒有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。
晶格在研磨過程中幾乎完全保留。
研磨容器是一個125 ml容量的聚丙烯罐,配一個無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。**的磨時間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
應(yīng)用實(shí)例
borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
優(yōu)點(diǎn)
研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。
性能指標(biāo)
應(yīng)用搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨
應(yīng)用領(lǐng)域X-ray diffraction
樣品特征中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的
**進(jìn)樣尺寸<0.5毫米
*終出料粒度 *< 1 μm
網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速1,000 - 1,500 min-1 4步
研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù))1
典型粉碎時間3 - 30 min
干磨是
濕磨是
低溫研磨-
研磨套件材料:瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石
研磨罐尺寸125 ml
粉碎時間設(shè)定數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50
驅(qū)動DC-Motor
驅(qū)動功率50W
電源數(shù)據(jù):220-240 V, 50/60 Hz
電源接頭:單相
防護(hù)類型IP 30
接受功率100W
機(jī)體尺寸(寬x高x縱深)205 x 155 x 520 mm
凈重~19 kg
標(biāo)準(zhǔn)CE
Please note:
受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響
作用原理
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。
在運(yùn)行過程中,罐子做圓周運(yùn)動,研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。
由于研磨過程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的**選擇。