粉體行業(yè)在線展覽
VK-SP50W/50F
1萬元以下
晶和
VK-SP50W/50F
1164
納米二氧化硅拋光粉/拋光液
我公司系列二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料,光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術指標:
型號 | 外觀 | 粒徑 | 含量 | 應用 |
VK-SP50W | 白色液體 | 50nm/100nm | 30% | 精拋 |
VK-SP50F | 白色粉末 | 50nm | 99.8% | 精拋 |
VK-SP100F | 白色粉末 | 100nm | 99.8% | 精拋 |
我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好,粘度低,拋光亮度高,光澤細膩,可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學玻璃拋光,玻璃水鉆拋光,寶石拋光,金屬拋光,石材拋光等精拋。
用量
推薦用量為8~20%,調(diào)成漿料再進行拋光。
儲藏:常溫密閉儲藏。
包裝:10公斤/袋,20公斤/桶。
VK-SR01
VK-SP30S
VK-SP15S/H/F
VK-R30D
VK-TA30D
VK-L30D
VK-LA30D
VK-Mg30D
VK-SP15D
VK-L20M
VK-L30/L20Y
VK-L30/L20Y/L500