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Microtrac納米粒度分析儀NANOTRAC FLEX

直接聯(lián)系

大昌華嘉科學(xué)儀器

德國

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面議

關(guān)注度:

1125

產(chǎn)品介紹

儀器簡(jiǎn)介:

納米粒度測(cè)量——先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)

隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級(jí)別的大小,顆粒對(duì)光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(cè)(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測(cè)量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細(xì)顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,**引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,快速準(zhǔn)確地得到被測(cè)體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術(shù),結(jié)合動(dòng)態(tài)光散射理論和先進(jìn)的數(shù)學(xué)處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達(dá)百分之四十,基本實(shí)現(xiàn)樣品的原位檢測(cè)。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測(cè)體系的實(shí)時(shí)溫度和粘度,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù),信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí)。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品的直接測(cè)量,極大的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。

測(cè)量原理:

粒度測(cè)量:動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理

分子量測(cè)量:水力直徑或德拜曲線

光學(xué)系統(tǒng):

3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號(hào),無需校正光路

軟件系統(tǒng):

先進(jìn)的Microtrac FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個(gè)性化輸出報(bào)告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強(qiáng)分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護(hù),電子簽名和指定授權(quán)等。

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

環(huán)境要求:溫度,10-35°C

國際標(biāo)準(zhǔn):符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008

主要特點(diǎn):

• 采用先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法

• 異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號(hào)強(qiáng)度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),提高分析結(jié)果的可靠性。

• 可控參比方法(CRM),能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。

• 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì),減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測(cè)試的準(zhǔn)確性。

• 快速傅利葉變換算法(FFT,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測(cè)系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時(shí)間。

• 膜電極設(shè)計(jì),避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準(zhǔn)確測(cè)量顆粒電泳速度。

• 消除多種空間位阻對(duì)散射光信號(hào)的干擾,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

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