粉體行業(yè)在線展覽
M4000 (PLUS)
面議
M4000 (PLUS)
3750
產(chǎn)品概述
M4000 PLUS全譜直讀光譜儀,系聚光科技基于M4000系列產(chǎn)品,推出的升級產(chǎn)品。承載著聚光科技火花直讀光譜儀系列產(chǎn)品十余年技術(shù)積淀,加持新型科研級CMOS檢測器,以更高的靈敏度,更好的檢測效果,更快的分析速度,更廣的分析范圍,為用戶提供更好的金屬材料定量分析解決方案。
性能優(yōu)勢
科研級CMOS檢測器,全元素分析,開創(chuàng)PPM級元素分析新紀(jì)元
噪聲低 科研級感光元件噪聲小,抗干擾強(qiáng),具備防光暈技術(shù)
抗干擾 CMOS探測器集成度高,可避免外部電路引入噪聲
讀取速度快 采用OEO(Optimal Element-Oriented)技術(shù),像素信號單獨(dú)讀取,實現(xiàn)參數(shù)優(yōu)化設(shè)計
紫外響應(yīng)高 超高紫外響應(yīng)靈敏度,無需鍍膜,實現(xiàn)非金屬元素(N,C,S,P)分析,效果更優(yōu)
創(chuàng)新的密封氬氣循環(huán)系統(tǒng)
光室密封性更佳,可保持內(nèi)部氬氣長期純凈
分析環(huán)境相當(dāng)于真空光室10-3Pa,優(yōu)化了短波元素的分析性能
氬氣循環(huán)過濾裝置,可有效濾除空氣分子,提高光室的可靠性
光室內(nèi)外壓力差幾乎為零,可有效避免大氣壓力引起的光學(xué)系統(tǒng)漂移進(jìn)而提高產(chǎn)品的長期穩(wěn)定性
降低充氬系統(tǒng)的氬氣消耗,有效節(jié)約生產(chǎn)成本
穩(wěn)定性升級,重新定義光學(xué)產(chǎn)品穩(wěn)定性
壓鑄鋁合金整體光室,4級消除應(yīng)力處理
光室恒溫設(shè)計,保證光譜位置長期穩(wěn)定,不漂移
氣流路的精確設(shè)計,一切為了結(jié)果更穩(wěn)定
RTMC光譜優(yōu)化技術(shù),帶來更穩(wěn)定的體驗
全數(shù)字脈沖光源,自動選擇**能量保證分析的準(zhǔn)確性與重復(fù)性
高性能,更高效,提升適用性
方便的樣品激發(fā)臺
開放式激發(fā)臺,內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小,氬氣消耗大大降低
四路氬氣吹掃,有效清除殘留粉塵,降低激發(fā)臺維護(hù)量
個性化的的樣品夾具
可適用于分析各類大小形狀的樣品
人性化的一鍵式激發(fā)/停止按鈕
樣品裝載激發(fā)一氣呵成,無需軟件操作,直接得到數(shù)據(jù)結(jié)果
檢測時間大大縮短,有效提升工作效率
易用性升級,給用戶更簡單、高效的使用體驗
優(yōu)質(zhì)硬件與特定算法的**結(jié)合,多重穩(wěn)定保障,更好地監(jiān)控儀器運(yùn)行狀態(tài),提升分析效果,減少校準(zhǔn)頻率
支持全譜分析檢測,拓展性更高。增加分析基體和元素?zé)o需增加硬件,通過軟件即可擴(kuò)展分析范圍,使用更靈活
智能曲線功能可滿足對所有材料的分析需求,真正實現(xiàn)未知樣品分析,無需糾結(jié)模型選擇,操作更加簡便
友好的人機(jī)交互設(shè)計,軟件主界面簡潔清晰,圖形化顯示,短時間即可學(xué)會并熟練操作軟件
新增遠(yuǎn)程維護(hù)功能,可遠(yuǎn)程升級固件程序,遠(yuǎn)程檢查儀器狀態(tài),對儀器生命周期健康負(fù)責(zé)
應(yīng)用領(lǐng)域
應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械加工、鑄造、金屬材料科研、航空航天、造船、汽車、海關(guān)檢驗、第三方檢測等諸多領(lǐng)域。
M5000 (PLUS)
ARTUS 10
Calibus 系列
EXPEC 5231
EXPEC 7350
SUPEC 7000
EXPEC 6500 D、R、H型 EXPEC 6100 D、R型
EXPEC 7200
EXPEC 5210
EXPEC 5310
EXPEC 5250
EXPEC 6000
LUMiFlector
ASD
Zetium
Serstech 100 Indicator
FluoroMax -
N-500
近紅外光譜分析儀(點(diǎn)擊可看詳細(xì)資料)
Metorex C100型
全譜直讀光譜儀
UV9600D
ARL? QUANT'X EDXRF