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HORIBA JY H20-UVL真空紫外光譜儀

直接聯(lián)系

北京國(guó)嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司

法國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

關(guān)注度：

407

產(chǎn)品介紹

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)快速精確的光譜掃描，可作為一個(gè)優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測(cè)器，H20-UVL還是一個(gè)高性價(jià)比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。

技術(shù)特點(diǎn)

單片式光學(xué)結(jié)構(gòu)確保光通量**化，高光學(xué)穩(wěn)定性

配備4型消像差單色儀光柵，全光譜范圍線色散均勻

全自動(dòng)蝸輪高速驅(qū)動(dòng)光柵

光柵表面鍍氟化鎂膜，優(yōu)化120nm以上波長(zhǎng)的輸出

典型應(yīng)用

透射反射測(cè)量

熒光激發(fā)

可調(diào)濾波/光源

激光諧波濾波

技術(shù)指標(biāo)

光學(xué)設(shè)計(jì)	HJY**的4型消像差單色儀光柵
焦長(zhǎng)	200 mm
孔徑	f/4.2
刻線密度	1200 gr/mm
光學(xué)鍍膜	針對(duì)121nm優(yōu)化的MgF2膜
偏轉(zhuǎn)角	64°
色散	100nm處3.6 nm/mm
驅(qū)動(dòng)	高速蝸輪驅(qū)動(dòng)
*小步進(jìn)	0.06 nm
速度	400 nm/s
精度	+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*)
可重復(fù)性	+/-0.06 nm
分辨率	優(yōu)于0.5 nm (**)
高真空	10^-5 mbar (***)
真空泵法蘭	DN40 KF
入射/出射接口	測(cè)微狹縫(10 um 至 2 mm)
入射/出射法蘭	DN25 KF
電腦接口	USB2.0
可選項(xiàng)
超高真空	10^-9 mbar
狹縫高度調(diào)節(jié)器	2， 4， 6 mm
(*)使用我們固件中的軟件驅(qū)動(dòng)矯正可以提高單色儀的精度
()使用寬10微米，高2mm的狹縫在121nm處測(cè)量 (*)H20-UVL不含真空泵和真空計(jì)

附件

前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配

后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配

樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品

偏振插片

制冷機(jī)，*低至4K

真空泵

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