粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
SYDC-100N
直接聯(lián)系
上海三研科技有限公司.
上海
面議
三研
SYDC-100N
1728
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)
SYDC-100N氮氣保護浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 Dip Coater
一. 產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于在氮氣氣氛保護下，采用溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
二. 產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機是是專門為氮氣氣氛保護下的液相法（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計。垂直提拉機構(gòu)置于密閉箱體內(nèi)，箱體側(cè)壁設(shè)有氮氣進口及壓力控制系統(tǒng)。鍍膜時，將溶液放入箱體內(nèi)，基片加持在垂直提拉機構(gòu)上，將氮氣充滿箱體（氮氣的充入量可通過控制箱體內(nèi)的濕度來調(diào)節(jié)），設(shè)置鍍膜參數(shù)后即可在氮氣氣氛的保護下對溶液進行提拉鍍膜。
適用于膜層易氧化、對濕度敏感的薄膜材料。還可充入氬氣等惰性氣體。
提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動，可極大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。
三. 產(chǎn)品特點
1. 提拉裝置、程序控制系統(tǒng)均采用中國臺灣及德國進口產(chǎn)品，確保運行精度及穩(wěn)定性；
2. 多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間，各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，精密控制。
3. 鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
4. 高、低速均運行平穩(wěn)，鍍膜時液面無振動，使膜層更均勻、無條紋。
5. 采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運行時，各項參數(shù)實時顯示，更直觀了解鍍膜進程。
6. 上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
7. 采用獨特設(shè)計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片。
8. 高精度氮氣傳感器。以及獨有的氮氣節(jié)約裝置，氮氣消耗量非常低。
四. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，*小分辨率1μm/s；
2. 速度精度：-0.02%～+0.02%
3. *大行程：230 mm
4. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
5. 浸漬時間：1～1200 s，*小分辨率1s；
6. 鍍膜次數(shù)：1～100次，*少1次；
7. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，*小分辨率1s；
8. 濕度控制范圍：1%～60%，*小可調(diào)1%；
9. 濕度精度：±3%
10. 溫度顯示范圍：-9℃～99℃
11. 電源：220V/50Hz
