粉體行業(yè)在線展覽
HTF1200-5/20-4F-HV
10-20萬元
皓越科技
HTF1200-5/20-4F-HV
14497
產(chǎn)品應(yīng)用
高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機(jī)組、自動(dòng)化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。
1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2、生長腔體采用進(jìn)口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;
3、爐膛采用進(jìn)口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場(chǎng)均勻,能耗低;
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時(shí)間工作;
5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(jì)(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);
6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;
7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù),自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),也可采用手動(dòng)控制;
8、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì),控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,方便整體移動(dòng)。
VHPgr-25/25-2000
AHS-45/45/45-1700
HMF1400-20/20/30
VVSw-20/25-2000
HTF1200-5/20-4F-HV
HMF1200-30/30/40
HMF1400-20/20/30
HMF1200-30/30/40
HMF1750-20/20/30
VHPsp-10/20-2000
PVPgr-20/25-2000
PVSgr-20/25-2000
HTRH,HTRV
略
馳順TF-1200型旋轉(zhuǎn)管式爐
開啟式管式爐
RLY系列燃油熱風(fēng)爐
OTL1200、KTL1400、KTL1600、KTL1700
RLY 系列
OTF-1200X-25-60
ZHK-B02123K-200
略
YCVD-1706