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>CVD管式爐

CVD管式爐

HTF1200-5/20-4F-HV

直接聯(lián)系

上海皓越電爐技術(shù)有限公司

上海

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

10-20萬元

品牌:

皓越科技

型號(hào):

HTF1200-5/20-4F-HV

關(guān)注度:

14497

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品應(yīng)用

    高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域。

產(chǎn)品特點(diǎn)

高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機(jī)組、自動(dòng)化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。

1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

2、生長腔體采用進(jìn)口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;

3、爐膛采用進(jìn)口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場(chǎng)均勻,能耗低;

4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時(shí)間工作;

5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(jì)(可拓展多路),配預(yù)混系統(tǒng);

6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實(shí)時(shí)控制和顯示相關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù),自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù),也可采用手動(dòng)控制;

8、系統(tǒng)采用集成化設(shè)計(jì),控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計(jì)等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個(gè)可移動(dòng)輪子,方便整體移動(dòng)。


產(chǎn)品咨詢

CVD管式爐

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