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簡介：本設備是氧化亞硅真空蒸鍍制備的專用設備，其中反應室為鉬絲電阻加熱，收集區(qū)為金屬筒結構，有效蒸發(fā)區(qū)域不低于15L。

特色與優(yōu)勢：

1.設備爐體上設有真空預抽氣口和小抽速抽氣口，有利于粉料燒結時不易被抽出。

2.加熱元件采用高純鉬絲和剛玉組件加工而成，放置于反應區(qū)，熱量輻射到坩堝對產(chǎn)品進行加熱，保證有效加熱區(qū)的溫度均勻性及加熱效率。

3.反應區(qū)坩堝、收集區(qū)收集倉均采用便攜可拆結構，方便取放。