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掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)

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瑞士萬通中國有限公司廣州代表處

瑞士

產(chǎn)品規(guī)格型號
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面議

關(guān)注度:

854

產(chǎn)品介紹

主要功能及特點(diǎn)Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學(xué)顯微鏡,技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學(xué)Schuhmann 教授課題組。Base-SECM 標(biāo)準(zhǔn)配置的功能已然十分強(qiáng)大,能滿足絕大多數(shù)研究的需要。在這基礎(chǔ)上,用戶還可以購置不同的功能模塊,以滿足特殊的研究需要。

·主要技術(shù)參數(shù)

定位系統(tǒng):XYZ 步進(jìn)控制系統(tǒng)

動態(tài)范圍:25x25x25 mm(其他范圍可選)

**線掃速率:10mm/s

分辨率:20nm

掃描模式

  • Feedback Mode 反饋模式

  • GC Mode 產(chǎn)生收集模式

  • Direct Mode 直接模式

  • AC-SECM 微區(qū)阻抗模式

  • 4D 模式

  • Shearforce剪切力模式

探針掃描:

  • 2D 掃描

  • 3D 掃描

  • 等間距掃描

  • 快速等間距掃描

  • 預(yù)設(shè)掃描

  • 自編輯電化學(xué)程序掃描

應(yīng)用領(lǐng)域

  • 電化學(xué)動力學(xué)研究

  • 吸附/脫附現(xiàn)象和溶解過程的研究

  • /液界面,液/氣界面,液/固界面以及重要的生物過程

  • 局部腐蝕過程觀測

  • 催化劑活性評價

  • 傳感器表面活性成像

  • 局部阻抗分析

  • 生物膜酶活性研究

  • 微納米尺度的金屬顆粒沉積(恒電流或無電沉積)

  • 在水或有機(jī)溶液中材料表面上導(dǎo)電聚合物局部沉積

  • 電化學(xué)刻蝕

產(chǎn)品咨詢

掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)

瑞士萬通中國有限公司廣州代表處

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掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM) - 854
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