μMLA桌面無掩模光刻機

桌面型光刻機μMLA技術參數(shù)

系統(tǒng)尺寸(光刻單元)

無掩模光刻機于2015年**推出。從那時起，先進的無掩膜技術已經(jīng)確立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置設置精確到您的需要與光柵掃描和矢量掃描模式(或兩者)和可變分辨率的記錄磁頭。

在許多應用中，傳統(tǒng)的光掩膜已經(jīng)成為過去，因為你的設計文件是通過二維空間光直接暴露在電阻涂層晶圓上的調制器(SLM)。μMLA是MLA100的直接繼承者，是“小”MLA150，是我們先進的無掩模對準器的兄弟，它是許多多用戶設備、納米制造實驗室和國家研究所中值得信賴、不可或缺的主力。

在我們全新的入門級系統(tǒng)μMLA的開發(fā)過程中，我們引入了諸如可變解決方案等新特性，并創(chuàng)建了一個靈活且高度可定制的桌面系統(tǒng)。當然，小樣本處理很簡單。μMLA功能保留以前桌面系統(tǒng)的優(yōu)點，同時提供更多的選擇和更高的性能。

應用包括研究和發(fā)展的領域，如MEMS，微流體，微光學和所有其他領域，負擔得起，緊湊，和強大的模式基因rator微結構是必需的。

APPLICATIONS 應用程序

微光學:二元衍射光學元件。設計由1個μm2正方形組成。

μMLA提供了一個標準的灰度模式，這可以制造低創(chuàng)造的微鏡頭。防蝕膠：15 μm厚AZ4562。節(jié)距30 μm，曲率半徑16 μm。

CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA

兩種曝光模式

μMLA可以讓你選擇光柵掃描曝光模式和矢量模式，或者甚至在同一個系統(tǒng)上運行曝光模式! 光柵掃描曝光模式快速，并提供良好的圖像質量和保真度，而寫入時間獨立于結構尺寸或圖案密度。矢量掃描模式可以幫助暴露由曲線組成的設計，當需要平滑的輪廓。雖然矢量模式產生的圖像質量與光柵掃描曝光模式相似，但它不能達到同樣的寫入速度，特別是對于高填充系數(shù)的模式。

A Choice of Wavelengths 波長的選擇

因此，你可以在一個系統(tǒng)上使用多達三個不同波長(LED和/或激光二極管)。

Variable Resolution 可變分辨率

我們新開發(fā)的可變分辨率函數(shù)允許您為一個部分的編寫模式選擇三種不同的分辨率。只需在軟件菜單中選擇解決方案，并為您的應用程序優(yōu)化參數(shù)。

The Surface at One Glance

可選的概述相機提供了一種簡單的方法來定位對準標記或其他特征感興趣的基板上。

Small Sample Handling 小樣本處理

小樣品處理是直接與μMLA: 光學自動對焦選項允許準確曝光，直到樣品的邊緣。