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日立高新離子研磨裝置IM4000

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柜谷科技發(fā)展（上海）有限公司

日本

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408

產(chǎn)品介紹

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：

斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。

平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。（**加工率：硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。

特點(diǎn)

混合模式：兩種研磨配置

斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察

平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性

高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間(**加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

可拆卸式樣品臺(tái)：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型

規(guī)格

項(xiàng)目	描述
項(xiàng)目	斷面加工臺(tái)	平面研磨臺(tái)
氣源	氬氣(Ar)
加速電壓	0-6Kv
**研磨速率﹡1﹡2（硅材質(zhì)）	約300μm/h﹡1﹡2	約20μm/h﹡3（點(diǎn)）約2μm/h﹡?（面）
**樣品尺寸	20（W）×12(D)×7(H)mm	Φ50×25(H)mm
樣品移動(dòng)范圍	X±7mm，Y0－＋3mm	X0－＋5mm
旋轉(zhuǎn)角度	-	1r/m，25r/m
擺動(dòng)角度	±15°，±30°，±40°	±60°，±90°
傾斜	-	0-90°
氣體流量控制系統(tǒng)	流量調(diào)節(jié)器
排氣系統(tǒng)	渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí)，135L/min，60Hz時(shí)，162L/min)
儀器外觀尺寸	616（W）×705(D)×312(H)mm
儀器重量	主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg
可選附件	光學(xué)顯微鏡（用于觀測(cè)研磨中的樣品）
﹡1：此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的**深度值 ﹡2：此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡3：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm

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