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日立高新磁控濺射器MC1000

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柜谷科技發(fā)展（上海）有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報價：

面議

關(guān)注度：

440

產(chǎn)品介紹

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠**限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品直徑：60 mm

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品高度：20 mm

特點：

采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件

可處理較厚或較大的樣品(選配件)

記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格：

項目		說明
放電	類型	磁控二極管放電型（電場垂直于磁場）
	電極組成	反向平行盤（嵌入磁鐵）
	電壓	**0.4Kv DC（直流可變）
	電流	**40mA DC
噴鍍速率(**）[條件] 壓力：7Pa 放電電流:40mA 標靶與樣品表面之間的距離:20mm	Pt靶(選配件)	15nm/min
	Pt-Pd靶（選配件）	20nm/min
	Au靶(選配件)	35nm/min
	Au-Pd靶（選配件）	25nm/min
樣品尺寸	**直徑	Ф60mm
樣品尺寸	**高度	20mm
機械泵		135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡2		Pt， Pt-Pd (8: 2)， Au， Au-Pd(6: 4)
電源要求		單相，100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m)
尺寸	寬度	450mm
	長度	391mm
	高度	390mm
重量	主機:約25Kg 機械泵:約28kg
﹡1：噴鍍速率僅供參考 ﹡2：主機內(nèi)不包括靶材。請從選項中選擇（鉑，鉑-鈀，金，金-鈀)

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日立高新磁控濺射器MC1000

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