久久综合久久美利坚中国_中曰韩无码视频_久久97久久97精品免视看_黄网址免费永久在线观看免费

THERMAL NIL 桌面式納米熱壓印機

產(chǎn)品描述

NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構設計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設備，用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機構均購買了CNI的設備。NILT CNI熱壓設備，

產(chǎn)品特點

占地小、操作簡便

可實現(xiàn)高質量的圖形復制

可實現(xiàn)納米熱壓設備的一切功能，而無需昂貴的工藝設備。

應用領域

在硅片上制作納米級光柵

壓印易碎的材料（例如III-V族材料）

微結構加工

制作壓印印章

保護母版的適用壽命

熱壓高深寬比結構圖形

THERMAL NIL 主要性能指標：

集成控溫卡盤，可對溫度進行測量、控制壓印程序可進行編程（溫度、壓力、時間）可適用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形狀的壓印模板。可適用于Silicon， Quartz， Nickel and Polymer materials壓印程序可進行編程適用所有熱壓印材料設備可用于復制壓印母板壓印溫度可達200 攝氏度壓力范圍：1‐10 bar壓印精度：40nm 或更好 (可完成工藝驗收)將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上載盤適用于易碎襯底快速升溫，快速降溫，擁有**技術的卡盤設計，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘提供COC 有機聚合物中間層軟膜（***的母板復制工藝），耗材及工藝培訓提供壓印相關材料提供工藝培訓和支持

壓印實例

方形結構陣列500nm

Distributed feedback laser array (DFB）分布式反饋激光器，240nm光柵結構

Demonstration of imprint on Indium Phosphide (InP)磷化銦Protrusion height突出高度：112 nm 納米

訂購型號：

CNI-V2.1桌面式納米熱壓印機參數(shù)：熱零點高達240攝氏度，UV NIL@365nm，壓印壓力:0.3至11Bar，真空壓?。?/span>1mbar），印章和基板尺寸：高達200 mm