世界上只有NTT-AT生產(chǎn)基于SiC膜的 FZP

利用具有高耐用性、SiC膜和清晰形狀的Ta X射線吸收體的FZP能生產(chǎn)堅韌、高精確、清晰的產(chǎn)品。

NTT-AT公司的FZP因其高質(zhì)量而在世界上被廣泛用于產(chǎn)品生產(chǎn)。

優(yōu)點

NTT-AT公司的由SiC膜和Ta吸收體圖案組成的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性、高分辨率和高對比度。

只有NTT-AT公司提供基于SiC膜的菲涅耳波帶板（FZP）具有出色的高耐X射線輻射性。NTT-AT的FZP由干法蝕刻的Ta組成。吸收體圖案清晰，S/N比高，成像缺陷少， 能理想地應(yīng)用于X射線顯微鏡、X射線微光束輻射和X射線成像。

另外，還提供用于軟X射線和極紫外（EUV、XUV）領(lǐng)域的Ta圖案／SiN膜型FZP和Au板圖案／SiN 膜型FZP。并提供臺階式（基諾全息照片）FZP。

特點

要點

• 能用于X射線顯微鏡、EUV顯微鏡、X射線微光束輻射和同步加速器輻射光束監(jiān)視等各種X射線應(yīng)用。

• 出色的高耐X射線輻射性

• *小區(qū)域?qū)挾冗_25納米

• 可定制FZP

標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品列表

※規(guī)格可能會變更，恕不預(yù)先通告。

Rn：*外區(qū)域?qū)挾?/span>

D：直徑

N：全區(qū)域

Tm：Ta厚度

菲涅耳波帶板（FZP）的X射線吸收體圖案

可按要求定制設(shè)計FZP，滿足用戶的特殊X射線能量、光學(xué)設(shè)置和聚焦、圖像性能。如果本公司的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品商品目錄中沒有所需的產(chǎn)品，

菲涅耳波帶板（FZP）的結(jié)構(gòu)

※我們可與用戶商討不同需求。

產(chǎn)品示例

超精密圖案菲涅耳波帶板（FZP）

菲涅耳波帶板（FZP）直徑：250微米，Ta厚度：125納米，*外區(qū)域?qū)挾龋?5納米，膜：SiC 2.0微米

高縱橫比（較厚Ta吸收體）菲涅耳波帶板（FZP）

菲涅耳波帶板（FZP）直徑：100微米，Ta厚度：2.5微米，*外區(qū)域?qū)挾龋?50納米，膜：SiN 2.0微米

臺階（基諾全息照片）式菲涅耳波帶板（FZP）

菲涅耳波帶板（FZP）直徑：100微米，Ta厚度：4.0微米，*外區(qū)域?qū)挾龋?00納米，膜：SiC 2.0微米

菲涅耳波帶板（FZP）中間區(qū)域的SEM 圖：臺階（基諾全息照片）式菲涅耳波帶板（FZP）、Ta圖案