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日立高新磁控濺射器MC1000

直接聯(lián)系

日立科學(xué)儀器(北京)有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

396

產(chǎn)品介紹

日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極,能夠**限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

  • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品直徑:60 mm

  • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的**樣品高度:20 mm

特點(diǎn):

  • 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件

  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

  • 記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格:

產(chǎn)品咨詢

日立高新磁控濺射器MC1000

日立科學(xué)儀器(北京)有限公司

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