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RTM-VA全角度光譜測量臺

材料中的很多成份，以不同角度入射，得到的透射率和反射率會發(fā)生變化。通過測量不同角度入射，研究材料的*敏感角度，為進(jìn)一步研究或設(shè)計(jì)測量儀器提供依據(jù)。

RTM-VA全角度光譜測量臺可以搭配光譜儀、光源及其他測量附件，可以對材料進(jìn)行不同角度入射和接收的光譜測量，適用于各種表面平整的樣品光譜測量。采用電控獨(dú)立雙軸設(shè)計(jì)，高精度步進(jìn)電機(jī)控制發(fā)射端和接收端的角度，角度分辨率0.05°。光譜范圍220-2500nm（可選擇不同配置），電腦軟件選擇發(fā)射端和接收端的角度，實(shí)現(xiàn)快速的光譜測量，能夠滿足透射/反射/散射/熒光/輻射等多種模式的全角度光譜測量應(yīng)用的需求。

入射端帶有一個旋轉(zhuǎn)偏振片架和一個濾波片架，可以放置一個偏振片和濾波片。接收端帶有一個濾波片架，可以放置一個濾波片、偏振片或者波片。各種波長的范圍的偏振片、濾波片和波片可供選擇。

應(yīng)用領(lǐng)域：

§光子晶體器件 §傳感器器件制備 §液晶顯示

§納米光學(xué)材料 §材料鍍膜 §角度相關(guān)材料分析

§LED光源等

主要特點(diǎn)：

• 全角度測量：發(fā)射端角度范圍0°至180°，接收端角度范圍0°至360°，可以實(shí)現(xiàn)反射、透射、散射、熒光和輻射的全角度光譜測量。

• 精確角度控制：高精度電機(jī)，角度精度及重復(fù)性能優(yōu)異。

• 多光譜測量模式：可以實(shí)現(xiàn)上反射、下反射、透射、散射/熒光、輻射等多種光譜測量。

• 可編程測量模式：可以通過編程，來實(shí)現(xiàn)自動多角度光譜測量。

• 自由測量模式：可以任意控制樣品臺的入射角、接收角，實(shí)現(xiàn)光譜測量。

• 可選配件多樣：根據(jù)客戶的不同測量應(yīng)用，可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應(yīng)用。

• 多維調(diào)節(jié)樣品臺：樣品臺由高精度三維位移臺和二維傾斜臺組成，可實(shí)現(xiàn)樣品的五維正交調(diào)節(jié)。

光譜角度測量模式

反射測量（上反射/下反射）模式 透射測量模式

散射/熒光測量模式 輻射測量模式

可選配件