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光譜薄膜測(cè)試儀

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536

產(chǎn)品介紹

儀器簡(jiǎn)介:

光譜薄膜測(cè)試儀 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement

應(yīng)用領(lǐng)域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies.

設(shè)備特性: Angstrom Sun 光譜反射儀廣泛用于各種透明、半透明薄膜測(cè)試.

•廣泛用于檢測(cè)各種薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO.

•膜厚范圍可自20nm 到5000nm. 可選各種光譜范圍, 自UV 200nm到IR 1700nm.

•可具有高達(dá)12”直徑自動(dòng) mapping 功能,軟件功能強(qiáng)大.

技術(shù)參數(shù):

光譜薄膜測(cè)試儀 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement

應(yīng)用領(lǐng)域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies.

設(shè)備特性: Angstrom Sun 光譜反射儀廣泛用于各種透明、半透明薄膜測(cè)試.

•廣泛用于檢測(cè)各種薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO.

•膜厚范圍可自20nm 到5000nm. 可選各種光譜范圍, 自UV 200nm到IR 1700nm.

•可具有高達(dá)12”直徑自動(dòng) mapping 功能,軟件功能強(qiáng)大.

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光譜薄膜測(cè)試儀

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光譜薄膜測(cè)試儀 - 536
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