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EDK 6900S系列TDLS激光微量氣體分析儀

NH3 /CH4/HF/HCl /CO2/H2O等

原理

EDK 激光沼氣微量氣體分析儀系列產(chǎn)品采用增強型TDLS技術，0，1nm的掃描波長，避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜”，可實現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息，此種檢測方法，不需要物理參考池，且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免標定、低成本、易操作等特點。

EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體，比如NH3、CH4、CO2、H2O等，這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關重要。高靈敏度和寬的動態(tài)量程，是可調諧半導體激光器光譜（TDLS）技術的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

EDK 激光沼氣微量氣體分析儀

典型應用 系列產(chǎn)品

√ CH4甲烷垃圾填埋EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測

√ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測 EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監(jiān)測

√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測

√逃逸排放 EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監(jiān)測

√ 天然氣監(jiān)測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測

√ 農(nóng)業(yè)領域 EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD)

√ 工業(yè)過程控制

√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx

√ 氣候變化研究

√ 環(huán)境研究

√ 呼吸分析

優(yōu)勢

· 超高靈敏度

· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報告

· 長壽命（+10年）

· 快速響應

· 低功耗

· 低成本方案（無耗材、備品備件、無需再標定）

· 優(yōu)秀的低成本元器件決定低成本傳感器

· 19”安裝支架

· 友好的人機界面

· 數(shù)據(jù)存儲與日志

· 可擴展的多點采樣系統(tǒng)

· 零點&寬量程校正

· 傳感器狀態(tài)自檢

技術參數(shù)

目標氣體*低檢測限典型量程

NH3， (H2O) 氨 ***

(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 20， 50， 100， (500) ppm

HCl， (H2O) 氯化氫 ***

(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 50， 100， (500) ppm

NH3 氨0.4 ppm 0 – 100 (500) ppm

CH4 甲烷0.4 ppm 0 – 100 (40'000) ppm

CO2 二氧化碳4.0 ppm 0 – 1000 (300’000) ppm

* 其他氣體可定制

** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C， 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。系統(tǒng)溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化，

*** 基于光譜原因，檢測限隨著高溫增加而會降低，比如 NH3 @ 190°C.

準確度± 2%FS 根據(jù)積分穩(wěn)定性（溫度&壓力）而定

精度根據(jù)氣體而定

零漂超過兩小時每周期---在準確度內

量程漂移超過八小時每周期---在準確度內

**溫度誤差< 0.1 讀數(shù)/°C

線性/重復性< ± 2%

交叉干擾由混合氣體定，或者根據(jù)實際工況

顯示分辨率0.1 ppm

刷新率 1s (可設置，*多120 s)

T90時間2s (@氣量3 L/min)

環(huán)境溫度補償-10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)

**樣氣濕度%**濕度，根據(jù)工況，需要輸入標定，通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度，可定制

**樣氣量5(1)L/ min; 標定時3L/min

供電VAC220-230/115 50/60 Hz

外殼19’’ 標準機架安裝（深500mm）

防爆等級ExdII CT4， ExdII CT5，(可定制)

氣路接口世偉洛克 Φ6 mm

測量方式原位抽取

采樣泵Internal內置

模擬輸出4-20 mA 電流環(huán)(無隔離)

端口Ethernet網(wǎng)口

顯示器5.7” 觸摸屏

數(shù)據(jù)存儲 通過USB口