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技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)指標(biāo)：

坩堝大小:1cc；2cc，（其它體積定制）

可實(shí)現(xiàn)的金屬層厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm

通常（**）沉積速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm

加熱系統(tǒng):帶坩堝的陶瓷容器

選項(xiàng)：標(biāo)準(zhǔn)金屬容器（可替換）

溫度范圍:300°C ~ 1700°C

電源要求:電壓 < 10 V (typ. 9 V)；電流 < 200 A (typ. 110 A)；功率 up to 2 kW

冷卻水:approx. 15 l /min

選項(xiàng)：

• 陶瓷容器；金屬容器

• 可彎曲的金屬管用于冷卻系統(tǒng)，免工具操作

• 與有機(jī)物升華器的聯(lián)合裝配

主要特點(diǎn)：

微型金屬升華器專為實(shí)驗(yàn)室研究或微小規(guī)模的制備而設(shè)計(jì)，可以裝配高真空或超高真空系統(tǒng)，主要用于沉積制備金屬層。

特殊設(shè)計(jì)的升華器核心構(gòu)成為傳導(dǎo)效率很高的陶瓷容器，同時(shí)包括一個(gè)嵌入的坩堝。兩種材料均能夠承受金屬的溶解過(guò)程。坩堝的材料可以所所升華金屬的不同而選擇。