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微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),VKTR,WBDQC-4

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333

產(chǎn)品介紹

微波材料學(xué)工作站--微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

主要用途:

該系統(tǒng)既可用作傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,又可用作微波能化學(xué)氣相沉積設(shè)備,同時(shí)又是微波等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備

主要為應(yīng)用在半導(dǎo)體大范圍的絕緣材料,大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料,石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域

該款具有高電離、高電子溫度和電子密度、適用壓強(qiáng)范圍寬、無(wú)內(nèi)部電極污染等優(yōu)異性能,微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、化學(xué)氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉(zhuǎn)化制氫、長(zhǎng)余輝發(fā)光材料、陶瓷燒結(jié)、碳納米管修飾[3]、納米粉體合成、處理水污染等領(lǐng)域

產(chǎn)品特點(diǎn):

垂直反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可使等離子高密度;對(duì)稱(chēng)的微波發(fā)生器裝置,使產(chǎn)生的等離子環(huán)境更均勻

諧振腔內(nèi)沒(méi)有內(nèi)部電極,可以避免電極放電所產(chǎn)生的污染,而且,它的運(yùn)行氣壓范圍比較寬,所產(chǎn)生等離子體密度高、區(qū)域大,穩(wěn)定性高,且不與真空器接觸,從而避免了器壁對(duì)薄膜的污染

操作便捷:氣路連接方式采用了KF快速連接法蘭結(jié)構(gòu),使取放物料過(guò)程簡(jiǎn)化,只需一支卡箍便可完成氣路連接,方便操作,取消了復(fù)雜的法蘭安裝過(guò)程,減少了安裝造成的損壞

多功能:4種加熱方式可選可變:微波等離子、純微波、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱;適應(yīng)包括金屬與合金在內(nèi)非易燃的任何樣品的熱處理

雙溫區(qū)結(jié)構(gòu):上部等離子區(qū)或加熱區(qū)下部樣品臺(tái)加熱區(qū)

**開(kāi)發(fā)的微波場(chǎng)專(zhuān)用傳感器,精準(zhǔn)控溫

安全:**采用防止泄漏的聯(lián)鎖保護(hù)屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔體設(shè)計(jì),多重防泄漏保護(hù)

*標(biāo)配裝有專(zhuān)業(yè)微波抑制器

*內(nèi)置微波泄漏傳感器

節(jié)能:使用壽命長(zhǎng):磁控管微波加熱,避免和解決了傳統(tǒng)的加熱絲、硅碳棒、硅鉬棒等加熱元件容易損壞的問(wèn)題,也避免了因加熱元件損壞而造成的時(shí)間、實(shí)驗(yàn)進(jìn)度、維修費(fèi)用等各種損失

采用無(wú)級(jí)可調(diào)、高穩(wěn)定度長(zhǎng)壽命、連續(xù)波微波源,確保設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行

嵌入式微機(jī)一體化溫度控制系統(tǒng);實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定性控溫

無(wú)須烘爐過(guò)程:爐腔整體自身發(fā)熱,加熱均勻

微波能量即開(kāi)即有,無(wú)熱慣性,易于控制溫度

配有萬(wàn)向輪調(diào)節(jié)底腳,方便移動(dòng)和固定

技術(shù)參數(shù):

型號(hào)/model

WBDQC-4

可加熱材料

非易燃易爆的任何材料

微波頻率

2.45GHZ±50MHz

加熱方式

等離子加熱、純微波加熱、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱

**功率/ KW(連續(xù)、可調(diào))

4

樣品腔長(zhǎng)度

標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶(hù)需求訂制

加熱樣品腔(材質(zhì))

石英管(微波等離子工作模式)

石英管&剛玉管(其它加熱方式)

控溫范圍/

1100℃石英樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可選;

1500℃剛玉樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm 可選;

溫度測(cè)試元件

微波場(chǎng)專(zhuān)用傳感器

溫度分辨率/

0.1

樣品臺(tái)**溫度范圍

室溫-1200℃、更高溫度可選配

控溫精度/

1200℃以下±11200℃以上±2

溫度偏差/

溫度穩(wěn)定波動(dòng)度/

冷卻方式

風(fēng)冷

恒溫區(qū)長(zhǎng)度/mm

標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶(hù)需求訂制

升溫速率(標(biāo)配)

0200/min(微波等離子工作模式除外)

任意設(shè)定,可編程、分段加熱

溫度控制方式

10段可設(shè)工藝參數(shù),7寸觸摸屏操作,帶數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能;提供手動(dòng)、自動(dòng)、恒溫控制模式,曲線(xiàn)實(shí)時(shí)顯示

控制氣體

控制氣體:H2、CH4、Ar、N 2 、其它氣體可選

流量控制

標(biāo)配 2 套質(zhì)量流量控制器:七星華創(chuàng)(真空保護(hù)閥門(mén)后置,匹配真空模式);精度:0.8%

**耐壓

1MPa;控制響應(yīng)時(shí)間:10ms

真空系統(tǒng)真空泵

RVP2008;壓力范圍:10 -3 Torr~760 Torr

**抽速:8.5m 3 /h

真空計(jì)

數(shù)顯真空計(jì):1atm-10 -1 Pa

標(biāo)配

質(zhì)量流量自動(dòng)控制系統(tǒng)配備控制計(jì)算機(jī)及控制軟件,可以?xún)?nèi)置實(shí)時(shí)顯示和保存生長(zhǎng)參數(shù)

氣路其他配置

氣柜、氣路及閥門(mén)等

端口

不銹鋼 KF50 法蘭接口

電源電壓(V

220

微波泄漏量/ mW/2

0.4

外型尺寸(長(zhǎng)高)/mm

1100×750×1900

選配功能:

質(zhì)量流量控制系統(tǒng);美國(guó)Alicat質(zhì)量流量&控制器

產(chǎn)品咨詢(xún)

微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),VKTR,WBDQC-4

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