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1）： 適用于對硅片、藍寶石片、氮化鎵、砷化鎵、碳化硅片等半導體晶圓的全自動離心脫水、氮氣吹掃烘干等； 

2）： 適用于2-12”晶圓的脫水甩干； 

3）： 配備電導率測試儀，可選清洗終點判定依據(jù)； 

4）： 配備旋轉(zhuǎn)支架：工作轉(zhuǎn)速 ：400-2200rpm；轉(zhuǎn)速誤差<5%；平衡等級：G40；采用光盤自動定位，定位可靠； 

5）： 觸摸屏+PLC控制方式； 

6）： 配備靜電消除裝置：將帶電離子吹向甩干桶內(nèi)以中和桶內(nèi)靜電離子。