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光反射薄膜測厚儀

原產(chǎn)國：美國

薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測量儀器，近幾年，每年的全球銷售量都超過200臺(tái)。根據(jù)型號(hào)不同，測量范圍可以從10nm到250um，它**可以同時(shí)測量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度（其中一層為基底材料）。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測量、測氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜。也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。

應(yīng)用領(lǐng)域

理論上講，我們的光干涉膜厚儀可以測量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下為我們*熟悉的應(yīng)用領(lǐng)域(半導(dǎo)體薄膜，光學(xué)薄膜涂層，在線原位測量，粗糙或弧度表面測量)：

□ 晶片或玻璃表面的介電絕緣層(SiO2， Si3N4， Photo-resist， ITO， ...)；

□ 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag， Al， Au， Ti， ...)；

□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂層；SOI硅片；

□ MEMs厚層薄膜(100μm up to 250μm)；

□ DVD/CD涂層；

□ 光學(xué)鏡頭涂層；

□ SOI硅片；

□ 金屬箔；

□ 晶片與Mask間氣層；

□ 減薄的晶片(< 120μm)；

□ 瓶子或注射器等帶弧度的涂層；

□ 薄膜工業(yè)的在線過程控制；等等…

軟件功能

豐富的材料庫：操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k數(shù)據(jù)，基本上的常用材料都包括在這個(gè)材料庫中。用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材料。

軟件操作簡單、測速快：膜厚測量儀操作非常簡單，測量速度快：100ms-1s。

軟件針對(duì)不同等級(jí)用戶設(shè)有一般用戶權(quán)限和管理者權(quán)限。

軟件帶有構(gòu)建材料結(jié)構(gòu)的拓展功能，可對(duì)單/多層薄膜數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合分析，可對(duì)薄膜材料進(jìn)行預(yù)先模擬設(shè)計(jì)。

軟件帶有可升級(jí)的掃描功能，進(jìn)行薄膜二維的測試，并將結(jié)果以2D或3D的形式顯示。軟件其他的升級(jí)功能還包括在線分析軟件、遠(yuǎn)程控制模塊等。