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日立Hitachi離子濺射儀MC1000

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

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面議

關(guān)注度：

895

產(chǎn)品介紹

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

特點(diǎn)：

。采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件

?？商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)

。記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格：

項(xiàng)目		說(shuō)明
放電：	類(lèi)型：	磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))
	電極組成：	反向平行盤(pán)(嵌入磁鐵)
	電壓：	** 0.4 kV DC(直流可變)
	電流：	** 40 mA DC
噴鍍速率 ^1(*)： [條件]：壓力：7 Pa 放電電流：40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm	Pt 靶(選配件)：	15 nm/min
	Pt-Pd 靶(選配件)：	20 nm/min
	Au 靶(選配件)：	35 nm/min
	Au-Pd 靶(選配件)：	25 nm/min
樣品尺寸：	**直徑：	φ60 mm
樣品尺寸：	**高度：	20 mm
機(jī)械泵：		135/162 l/min (50/60Hz)
靶材^*2：		Pt ， Pt-Pd (8:2) ， Au ， Au-Pd (6:4)
電源要求：		單相， 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz)， 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸：	寬度：	450 mm
	長(zhǎng)度：	391 mm
	高度：	390 mm
重量：		主機(jī)：約 25 kg 機(jī)械泵：約 28 kg

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日立Hitachi離子濺射儀MC1000

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