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派勒系列納米銷棒式砂磨機是PUHLER公司開發(fā)大流量循環(huán)臥式砂磨機，為新型納米研磨設(shè)備產(chǎn)品, 能滿足各類面漆,納米產(chǎn)品對細度指標的要求，產(chǎn)品粒度分布窄，PHN采用**縫隙分離器系統(tǒng)，超大過濾面積，滿足了各類高檔面漆生產(chǎn)所需要的大流量多次研磨的要求。PHN 的流量是傳統(tǒng)砂磨機的幾倍，分離器不受磨損，使用壽命長可以使用極小的研磨介質(zhì)，也不會堵塞出料過濾器.
 
通過與華南理工建筑材料系,深圳職業(yè)技術(shù)學院精細化工系等高校戰(zhàn)略性合作實驗, 突破了噴墨墨水;氧化鋁;藥物等產(chǎn)品細度問題,通過第三方檢測報告*終產(chǎn)品細度可達納米級(<100nm)以下。
適合研磨極難分散的材料,經(jīng)過多次研磨,可達到徹底分散研磨的效果。
采取多種冷卻措施,散熱性能好,適合用于對溫度敏感的物料研磨。
產(chǎn)品質(zhì)量再現(xiàn)性好,粒徑頒布均勻,產(chǎn)品質(zhì)量不受循環(huán)流量的影響。

PUHLER全新型徑向研磨機是在全球知名的研磨系統(tǒng)上做了進一步的研發(fā); 并取得**局批準，全封閉式，短/粗型的研磨腔設(shè)計元素，3:9之黃金分割比例的長度/直徑/線速度系數(shù)比更佳，高能密度能量輸入，并將其**合理組合，為您提供更經(jīng)濟的濕法研磨技術(shù)； 

新型徑向研磨機對于研磨大批量物料來說是*為經(jīng)濟的選擇，相對于其它研磨設(shè)備，設(shè)備的投入與磨介的選擇成本都低。另外，該機型的優(yōu)點是可以得到比其他機型更細更窄的粒度分布，能夠連續(xù)處理大量的漿料，還可在研磨過程中隨時向預混缸內(nèi)加入物料組份，并且因為漿料經(jīng)過研磨室的時間只有短短的15-25秒，所以可以得到精確的溫度控制。  
?   通過采用高效分離系統(tǒng)使得即使在非常高的流量下仍能保證研磨珠的安全分離，極大尺寸的筒式離心分離器篩網(wǎng)使得流動阻力（即壓降）*??； 
?    對于化妝品，制藥，食品和生化工程行業(yè)，派勒PUHLER能夠提供完全用不銹鋼制造的磨機和一些特殊的裝置滿足客戶的特殊需要。以下是一些介紹如何滿足個別客戶的特殊需求的例子： 
?    機架采用不銹鋼，并用顆粒度160打磨處理 
?    機械密封液使用溶劑配置 
?    清洗液容器以及冷卻盤旋管及管接頭都采用不銹鋼 
?    與產(chǎn)品接觸的磨損部件材料是氧化鋯 
?    渦輪采用氧化鋯材質(zhì) 
?    產(chǎn)品進口和出口采用快速加緊裝置連接 
?    冷卻回路能夠適應從-15°C至 110°C的冷卻/加熱介質(zhì) 
?    探針式溫度表（PT 100）和壓力表 
?    水冷式的主電機

派勒全新型徑向研磨機：主要應用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達