粉體行業(yè)在線展覽
WP-301D晶片雙面研磨機(jī)
面議
宏華電子
WP-301D晶片雙面研磨機(jī)
1001
技術(shù)特點(diǎn):
●主要用于碲鋅鎘,碲鎘汞,砷化鎵,磷化銦,銻化銦等材料的雙面精密研磨工藝,太陽輪、齒圈可聯(lián)動(dòng)也可各自獨(dú)立控制;
●配備自主、優(yōu)化的高精度鑲嵌式主軸系統(tǒng)及壓力精密實(shí)時(shí)控制系統(tǒng);上盤采用浮動(dòng)式連接方式,確保磨拋過程中與下盤隨時(shí)保持平行;磨拋壓力可按設(shè)定好的工藝參數(shù)閉環(huán)監(jiān)控并修正。
性能指標(biāo):
WP-301D晶片雙面研磨機(jī) | |||
研磨方式 | 通過行星齒輪旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)晶片上/下表面雙面研磨拋光 | ||
結(jié)構(gòu)方式 | 1根主軸,2個(gè)研磨盤((或2個(gè)拋光盤) | ||
研磨尺寸 | mm | Max.?150(6英寸) | |
主軸 | 主軸數(shù)量 | - | 1 |
下盤轉(zhuǎn)速 | rpm | 0~30 | |
研磨盤 | 材料 | 玻璃 | |
直徑 | mm | ?766 | |
數(shù)量 | 個(gè) | 1(上盤)、1(下盤) | |
拋光盤 | 材料 | - | 陶瓷 |
直徑 | mm | ?772 | |
數(shù)量 | 個(gè) | 1(上盤)、1(下盤) | |
游輪片 | 數(shù)量 | 個(gè) | 5 |
磨拋壓力 | 壓力調(diào)節(jié)范圍 | kg | 0.1~50 |
設(shè)備 | 外形尺寸WxD×H | mm | 1572×1053×2533 |
設(shè)備重量 | kg | 約2300 |
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