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美國(guó)MAS ZetaAPS電位分析儀

產(chǎn)品介紹：

美國(guó)MAS納米粒度及Zeta電位分析儀，可以測(cè)試：粒徑、Zeta電位、滴定、電導(dǎo)等。

此儀器容易使用、測(cè)量精確。對(duì)于高達(dá)60%（體積）濃度的樣品，也無(wú)需進(jìn)行稀釋或樣品前處理，即可直接測(cè)量甚至對(duì)于漿糊凝膠、水泥以及用其它儀器很難測(cè)量的材料都可直接進(jìn)行測(cè)量。

典型應(yīng)用：

綜合穩(wěn)定水泥漿，陶瓷，化學(xué)機(jī)械研磨，煤漿，涂料，化妝品，環(huán)境保護(hù)禪選法礦物富集，食品工業(yè)，乳膠，微乳，混合分散體系，納米粉，無(wú)水體系，油漆成像材料。

主要特點(diǎn)：

1）能分析多種分散物的混合體；

2）無(wú)需依賴(lài)Double Layer模式，精確地判定等電點(diǎn)；

3）可適用于高導(dǎo)電(highly conducting)體系；

4）可排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾；

5）可精確測(cè)量無(wú)水體系；

6）Zeta電位測(cè)試采用多頻電聲測(cè)量技術(shù)，無(wú)需先測(cè)量粒度即可進(jìn)行電位測(cè)量；

7）樣品的高濃度可達(dá)60%(體積比)，被測(cè)樣品無(wú)需稀釋?zhuān)瑢?duì)濃縮膠體和乳膠可進(jìn)行直接測(cè)量；

8）具有自動(dòng)電位滴定功能；

優(yōu)于光學(xué)方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1)被測(cè)樣品無(wú)需稀釋?zhuān)?/p>

2)排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾；

3)不需定標(biāo)；

4)能分析多種分散物的混合體；

5)高精度；

6)所檢側(cè)粒徑范圍款從5 nm至1000um

優(yōu)于electroactics方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1)無(wú)需定標(biāo)；

2)能測(cè)更寬的粒徑范圍；

3)無(wú)需依賴(lài)Double Layer模式

4)無(wú)需依賴(lài)( electric surface properties)電表面特牲；

5)零表面電荷條件下也可測(cè)量粒徑；

6)可適用于無(wú)水體系；

7)可適用于高導(dǎo)電(highly conducting)體系；

優(yōu)于微電泳方法的技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1)無(wú)需稀釋?zhuān)毯狭扛哌_(dá)60%；

2)可排除雜質(zhì)及對(duì)樣品污染的干擾；

3)高精度(±0.1mv)；

4)低表面電荷(可低至0. 1mv)；

5)electrosmotic flow不影響測(cè)量；

6)對(duì)流(convection)不影響測(cè)量；

7)可精確測(cè)量無(wú)水體系；

技術(shù)參數(shù)：

1)所檢測(cè)粒徑范圍寬：從5 nm至1000um；

2)可測(cè)量參數(shù)：粒度分布、固含量、Zeta電位、等電點(diǎn)IEP、E5A、電導(dǎo)率、PH、溫度、聲衰減；

3)Zeta電位測(cè)量范圍：+/-200 mv，低表面電荷(可低至0. 1mv)，高精度(±0.1mv);

4)零表面電荷條件下也可測(cè)量粒徑；

5)允許樣品濃度：0.1-60%(體積百分?jǐn)?shù))；

6)樣品體積：30-230ml；

7)PH范圍：0~14;

8)電導(dǎo)率范圍：0~10 s/m