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實(shí)時(shí)顆粒錄影顯微鏡PVM、深圳負(fù)責(zé)人：肖先生 13802******，QQ:185412738.
顆粒錄影顯微鏡PVM/優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：
防爆探頭式顆粒錄影和測(cè)量技術(shù)PVM：一臺(tái)儀器既可以實(shí)時(shí)測(cè)試顆粒粒徑大小、粒徑分布情況，也可以實(shí)時(shí)查看晶體顆粒的形貌形狀！  

防爆探頭式顆粒錄影和測(cè)量技術(shù)PVM、測(cè)量范圍：1um-5000um（與鏡頭放大倍數(shù)，相機(jī)等相關(guān)）
*不同于聚焦光束反射測(cè)量儀FBRM，采用顆粒錄影顯微技術(shù)檢測(cè)，測(cè)試的是真實(shí)的粒徑大小，非弦長計(jì)算！  

顆粒錄影顯微鏡PVM、防爆探頭式在線顆粒粒徑大小粒徑分布測(cè)量儀，用于反應(yīng)釜里面的樣品實(shí)時(shí)在線檢測(cè)！  

顆粒錄影和測(cè)量PVM，防爆探頭式過程成像系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)顆粒的形貌和尺寸大小做實(shí)時(shí)的準(zhǔn)確測(cè)量，進(jìn)而加深對(duì)過程的了解和實(shí)現(xiàn)過程的優(yōu)化控制及放大。除了固體結(jié)晶以外，對(duì)其他非固體的領(lǐng)域，例如氣泡，泡沫，乳狀液，液滴，聚合物，流場(chǎng)等刻畫也具有極其廣泛的應(yīng)用前景。工藝過程成像探頭系統(tǒng)適用于生產(chǎn)中對(duì)過程的研究，產(chǎn)品開發(fā)及其改進(jìn)。特別適用于監(jiān)測(cè)，優(yōu)化和控制高顆粒濃度過程及非透明顆粒的生產(chǎn)過程。  

技術(shù)指標(biāo)-防爆探頭式顆粒錄影和測(cè)量技術(shù)PVM  

測(cè)量范圍：1um-5000um（與鏡頭放大倍數(shù)，相機(jī)等相關(guān)）  

（選配不同配置） 

測(cè)量方式：在線測(cè)量晶體形態(tài)，平均尺寸，顆粒大小分布  

測(cè)量濃度：可高達(dá)50%固體顆粒濃度（與顆粒形狀相關(guān)）  

工作溫度：-10~150℃  

性能特征-防爆探頭式顆粒錄影和測(cè)量技術(shù)PVM  

特殊設(shè)計(jì)的探頭（相機(jī)/鏡頭/光源）可廣泛地適用于許多困難物系（尤其是非透明顆粒物系及高固體濃度）。  

由于特殊的光源設(shè)計(jì)，本系統(tǒng)可有效的防止顆粒沉積/粘結(jié)于探頭上。  

根據(jù)不同物系及客戶要求，本系統(tǒng)可設(shè)計(jì)不同方案（包括氣體清理系統(tǒng)）。  

強(qiáng)大的圖像處理功能可實(shí)現(xiàn)顆粒多尺度分割，計(jì)算顆粒形狀參數(shù)（主元素分析和傅立葉變換），聚類分析和定量產(chǎn)品/過程控制。  

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