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JW-BK基礎(chǔ)型

比表面積及孔徑分布，是表征微納米粉體材料表面物性及孔結(jié)構(gòu)的重要參數(shù)之一，常用、可靠的方法是靜態(tài)容量法氣體吸附。JW-BK基礎(chǔ)型系列全自動(dòng)比表面及孔徑分析儀即能準(zhǔn)確可靠解決粉體材料比表面積及孔徑分析問(wèn)題，根據(jù)測(cè)試功能不同可區(qū)分為JW-BK112、JW-BK122W、JW-BK222三種型號(hào)，其中，JW-BK122W型因配置有小量程10torr壓力傳感器，配合二級(jí)吸附泵技術(shù)，可有效分析0.7nm以上微孔材料的孔徑分布需求。 低溫條件下（液氮或液氬等），在密閉的真空系統(tǒng)中，改變吸附質(zhì)氣體壓力，通過(guò)高精密壓力傳感器測(cè)量出樣品吸附氣體分子前后的壓力變化值，進(jìn)而計(jì)算出氣體吸附量，描繪出等溫吸脫附曲線，應(yīng)用各種物理分析模型進(jìn)行比表面積及孔隙度分析

產(chǎn)品特點(diǎn)

測(cè)試原理

低溫條件下（液氮或液氬等），在密閉的真空系統(tǒng)中，改變吸附質(zhì)氣體壓力，通過(guò)高精密壓力傳感器測(cè)量出樣品吸附氣體分子前后的壓力變化值，進(jìn)而計(jì)算出氣體吸附量，描繪出等溫吸脫附曲線，應(yīng)用各種物理分析模型進(jìn)行比表面積及孔隙度分析。

二級(jí)吸附泵技術(shù)

122W型采用二級(jí)吸附泵技術(shù)，可顯著提高測(cè)試系統(tǒng)真空度1-2個(gè)數(shù)量級(jí)，為微孔分析提供有利條件，微孔直徑測(cè)試*小0.7nm；

冷自由空間

He自動(dòng)校正，適合任何粉體、顆粒材料

真空脫氣

集同位、異位真空脫氣于一體的標(biāo)準(zhǔn)化設(shè)計(jì)，樣品分析的同時(shí)，可以進(jìn)行另外2個(gè)樣品不同溫度及時(shí)間的異位脫氣處理；分析站可同時(shí)進(jìn)行2個(gè)樣品不同溫度及時(shí)間的同位脫氣處理材料

測(cè)試模塊

核心設(shè)計(jì)，死體積空間Vd小，內(nèi)部溫度Td實(shí)時(shí)檢測(cè)及控制，保證了吸附量測(cè)定的科學(xué)性和準(zhǔn)確性；

微孔分布

HK、SF微孔分析模型應(yīng)用準(zhǔn)確，微孔孔徑偏差小于0.02 nm，通過(guò)中國(guó)計(jì)量院認(rèn)證

操作便利，人性化設(shè)計(jì)

以太網(wǎng)數(shù)據(jù)采集，向?qū)讲僮鬈浖?，一臺(tái)計(jì)算機(jī)可同時(shí)控制多臺(tái)儀器，可遠(yuǎn)程控制；

DIH選擇性吸附模型

壓力傳感器

核心部件，高精度電容式薄膜壓力傳感器，C型配置1torr(可選擇0.1torr)使得物理吸附分析中的氣體分壓P/P0可達(dá)10-7-10-8（N2/77K）

液氮面控制

采用3L大容量真空玻璃內(nèi)膽杜瓦瓶、高效封蓋、小內(nèi)截面、軟件修正等綜合控制技術(shù)，使測(cè)試過(guò)程中樣品管內(nèi)非均勻溫度場(chǎng)保持相對(duì)恒定（等溫）

防抽飛

自控可調(diào)式多通道并聯(lián)真空系統(tǒng)，抽真空速度得到精細(xì)的"階梯式"自動(dòng)控制，防樣品抽飛；同時(shí)設(shè)計(jì)內(nèi)置式防抽飛單元，將超細(xì)微粉可能被抽飛的可能性降至*低，可有效避免儀器受到污染

NLDFT

非定域密度函數(shù)理論孔徑分析軟件，與北京化工大學(xué)、蘇州大學(xué)深入合作開發(fā)，填補(bǔ)了**，與國(guó)際接軌，涵蓋碳材料、分子篩等各類微孔材料測(cè)試界面上動(dòng)態(tài)顯示每個(gè)吸附平衡過(guò)程，可清晰了解樣品的吸附特征，監(jiān)控實(shí)驗(yàn)過(guò)程，幫助分析異?，F(xiàn)象，還通過(guò)事件欄和指示燈顯示儀器內(nèi)部動(dòng)作進(jìn)程，是獨(dú)特的很有使用價(jià)值的人性化設(shè)計(jì)；

通過(guò)測(cè)試界面可直觀清晰觀察到歧管內(nèi)部空間壓力及溫度變化，便于儀器維護(hù)，也便于簡(jiǎn)易測(cè)試當(dāng)前大氣壓需要；

測(cè)試數(shù)據(jù)自動(dòng)保存為源文件，支持不聯(lián)機(jī)、多文檔同時(shí)分析，可拷貝，BET、Langmuir、BJH、t-plots等等十幾種物理吸附分析模型供選擇使用；

預(yù)處理包含隨機(jī)獨(dú)立式、同位處理式兩種，可按需選擇使用，微型可移動(dòng)加熱爐，≦400°C±1°C，可實(shí)行10段程序控制。 設(shè)計(jì)；