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氣體團(tuán)簇粒子束GCIB

簡(jiǎn)介

PHI Ar₂₅₀₀ 氣體團(tuán)簇離子槍是進(jìn)行深度分析有機(jī)物和聚合物而不破壞其化學(xué)狀態(tài)的有效工具。類似于C₆₀的應(yīng)用，使一次離子束得能量均分到60個(gè)碳原子上； Ar₂₅₀₀能獲得更低的沖擊能量，由于其團(tuán)簇是由2500個(gè)氬離子構(gòu)成。這種Ar₂₅₀₀ GCIB氬離子在深度分析時(shí)，對(duì)樣品造成的破壞很小，同時(shí)也避免了類似C-60離子濺射過(guò)程中離子堆積的可能性。總之， Ar₂₅₀₀ GCIB自身非常適合深度分析，如聚亞酰胺（PI）等廣泛用于半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池和顯示器工業(yè)的材料。ULVAC-PHI該型號(hào)產(chǎn)品在第五十七屆國(guó)際博覽會(huì)（2011年10月17-22日在Albuquerque, NM.舉行）上被美國(guó)真空學(xué)會(huì)（AVS）授予**展品獎(jiǎng)。

圖1 - ULVAC-PHI**的Ar₂₅₀₀ GCIB型離子槍

應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

聚亞酰胺（PI）薄膜樣品用不同Ar離子束流能量濺射后，下面的表格1總結(jié)了XPS測(cè)試的濺射前后化學(xué)組成。

表1 - Ar離子濺射前后聚亞酰胺（PI）樣品原子濃度的匯總

從上面的結(jié)果中，看出Ar離子濺射后聚亞酰胺樣品化學(xué)組成明顯改變，該樣品緊接著用配有Ar₂₅₀₀ GCIB的XPS進(jìn)行深度剖析。如下圖2所示，Ar₂₅₀₀ GCIB可以非常有效地移除受損層，并將PI層恢復(fù)其原本得化學(xué)結(jié)構(gòu)，由此可見(jiàn)，即使如PI般的樣品，用Ar₂₅₀₀ GCIB濺射的時(shí)也不會(huì)對(duì)化學(xué)組成造成破壞。

圖2 - Ar離子濺射后的受損層，經(jīng)Ar₂₅₀₀ GCIB剝離后，回到PI的初始狀態(tài)