粉體行業(yè)在線展覽
面議
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MAXIM 二次離子濺射中性粒子質(zhì)譜儀可分析二次陰、陽(yáng)離子動(dòng)態(tài)和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應(yīng)用于SIMS和SNMS的光學(xué)采樣。
·光柵控制,增強(qiáng)深度分析能力·所有能量范圍內(nèi),離子行程的*小擾動(dòng),及恒定離子傳輸·靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器
·質(zhì)量數(shù)范圍: 300amu,500amu,1000amu
·檢測(cè)器:離子計(jì)數(shù)探測(cè)器、正負(fù)離子探測(cè)器、107 cps
·質(zhì)量過(guò)濾器: 3F四級(jí)桿
·桿直徑: 9mm
·**加熱: 250℃
·離子源:電子轟擊,可用于SNMS和RGA的單根燈絲
BELMASS II
BSD-MASS
Master 400
EXPEC 5231
BELMASS
ZQJ-3000型
L600
HESZKAT800
ICP-MS 2000系列
熱分析 - 四極桿質(zhì)譜儀 QMS 403 Aёo(hù)los? Quadro 聯(lián)用
DEMS