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儀器簡(jiǎn)介：

IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅(jiān)固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子.

獨(dú)有的專業(yè)終點(diǎn)檢測(cè)（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程質(zhì)量**化監(jiān)測(cè).

技術(shù)參數(shù)：

應(yīng)用：

• 終點(diǎn)檢測(cè)（End Point Detection）

• 靶的純度鑒定

• 質(zhì)量控制/ SPC.

• 殘余氣體分析

• 泄漏監(jiān)測(cè)

主要特點(diǎn)：

特點(diǎn)：

• 高靈敏度的 SIMS/MS，帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器

• 三級(jí)過濾四極桿，標(biāo)準(zhǔn)配置質(zhì)量數(shù)為300 amu

• 差式泵歧管，經(jīng)連接法蘭，接到過程室

• 離子光學(xué)器件，帶能量分析器和內(nèi)置離子源

• Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過壓保護(hù)

• 數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過程控制工具整合

• 穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)

• 通過 RS232、RS485或以太網(wǎng)， 軟件MASsoft控制

• 程控DDE， 平行數(shù)字式I/O， RS232通訊