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國(guó)產(chǎn)高分辨輝光放電質(zhì)譜儀（型號(hào)：Sparkle型）是十四五科技部重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng)的**成果，由西安交通大學(xué)主導(dǎo)研發(fā)，并依托我公司進(jìn)行生產(chǎn)、銷(xiāo)售及售后服務(wù)。該儀器采用慢速流輝光放電離子源，同時(shí)配備針狀和片狀樣品架，可用于導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體、粉末、涂層等材料分析。液氮冷卻離子源的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，輕松對(duì)低熔點(diǎn)金屬（如金屬鎵Ga）進(jìn)行分析。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.     國(guó)產(chǎn)化高分辨質(zhì)譜儀：國(guó)內(nèi)首款高分辨輝光放電質(zhì)譜儀，完全自主可控，關(guān)鍵零部件國(guó)產(chǎn)化率超過(guò)95%。

2.     固體樣品快速分析：支持片狀、針狀、粉末等多種類(lèi)型固體樣品分析，便捷的樣品裝載結(jié)構(gòu)，可在1分鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)樣品的快速更換，一次掃描便可實(shí)現(xiàn)常量、微量、痕量、超痕量雜質(zhì)元素的同時(shí)測(cè)量。

3.     高質(zhì)量分辨率：采用自主設(shè)計(jì)的高分辨離子光學(xué)系統(tǒng)，**可達(dá)到10000的質(zhì)量分辨率（10%峰谷），在中分辨率條件下，可實(shí)現(xiàn)平頂峰測(cè)量，在提高測(cè)量精密度的同時(shí)，采用跳峰法進(jìn)一步提高分析效率。

4.     低運(yùn)行成本：采用慢速流離子源，典型流量0.2sccm，反應(yīng)氣消耗成本幾乎可以忽略。高純鉭的放電室易于清潔，很大限度減小了記憶效應(yīng)，可以重復(fù)使用。

5.     便捷的操作軟件：儀器配套的操作軟件完全自主研發(fā)，操作簡(jiǎn)單、易于上手。支持Windows、Linux、國(guó)產(chǎn)操作系統(tǒng)。

技術(shù)指標(biāo)

（1）質(zhì)量范圍：6~280 amu；

（2）質(zhì)量穩(wěn)定性：優(yōu)于25 ppm/30min；

（3）質(zhì)量分辨率：低分辨（LR）≥400，中分辨（MR）≥4000，高分辨（HR）≥10000，單次測(cè)量可自動(dòng)進(jìn)行分辨率切換；

（4）靈敏度：中分辨下，銅樣品進(jìn)樣，Cu離子的總離子流峰高≥1E10cps；

（5）離子計(jì)數(shù)器性能：

??  暗噪聲：≤10 cpm；

??  探測(cè)效率：＞90%

（6）動(dòng)態(tài)范圍: 不低于1E12；

（7）儀器檢出限：ppb級(jí)別；

（8）豐度靈敏度：中分辨下，銅樣品進(jìn)樣，測(cè)量質(zhì)量數(shù)62相對(duì)質(zhì)量數(shù)63豐度靈敏度<20ppb；

（9）內(nèi)部重復(fù)性：主量成份< 3%RSD，次量成份< 5%RSD，痕量成份<10%RSD；

（10）外部重復(fù)性：主量成份<5%RSD，次量成份<10%RSD，痕量成份<20%RSD。