粉體行業(yè)在線展覽
FE系列磁控濺射臺
面議
福宜真空
FE系列磁控濺射臺
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4in.三靶聚焦共濺射鍍膜系統(tǒng),可以滿足多組份或多層金屬和化合物濺射鍍膜,樣品臺同時(shí)具備公轉(zhuǎn)和自傳功能,可以同時(shí)安裝多片100mm樣品,薄膜厚度均勻性達(dá)到5%,靶材利用率達(dá)到40%以上。強(qiáng)磁場設(shè)計(jì),可以滿足鐵磁材料濺射。濺射陰極主體采用聚四氟乙烯設(shè)計(jì),優(yōu)化水冷設(shè)計(jì),可以滿足大功率密度濺射,成膜速率提高30%以上。
光電薄膜繞卷鍍膜機(jī)
連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備
光學(xué)鍍膜機(jī)
連續(xù)式陶瓷鍍膜生產(chǎn)線
不導(dǎo)電(NCVM)膜鍍膜設(shè)備
五金首飾真空鍍膜機(jī)
磁控濺射多弧離子復(fù)合鍍膜機(jī)
刀具超硬膜離子鍍膜機(jī)
模具超硬膜離子鍍膜機(jī)
2.6M高單機(jī)鍍膜設(shè)備(3維轉(zhuǎn)架)
FE-F系列風(fēng)冷復(fù)合分子泵
FE-MPP3600A渦輪分子泵