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連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質(zhì)量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設(shè)計，提供全套鍍膜設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。

設(shè)備特點：

1.設(shè)備采用真空磁控濺射技術(shù)，孿生陰極，中頻濺射技術(shù)，并配以先進(jìn)的控制系統(tǒng) 。

2.生產(chǎn)過程全部自動，連續(xù)進(jìn)行。被鍍工件加熱溫度**可達(dá)350℃，溫度分區(qū)控制可調(diào)。

3.真空室材料采用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁采用拋光后噴漆處理。

4.真空室之間采用獨立門閥隔開，我們設(shè)計的是插板閥，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。傳動采用磁導(dǎo)向，保障傳動的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動，運行速度可調(diào)節(jié)。

5.電氣控制系統(tǒng)：觸摸屏與PLC自動控制，人機(jī)對話方式來實現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示、操作與控制。

1．極限真空：7x10-4Pa.                    

2．生產(chǎn)周期40~120秒/架

3．基本架尺寸：859*1500mm (可以根據(jù)要求定做) 

4．膜層均勻性：±2%

5．膜層穩(wěn)定性：達(dá)到國際標(biāo)準(zhǔn)

玻璃、導(dǎo)電膜

廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域

適用于柔性電致變色器件、柔性薄膜太陽能電池、柔性EL發(fā)光器件的制備和生產(chǎn)