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科研專用小型卷繞鍍膜設(shè)備
面議
振華科技
科研專用小型卷繞鍍膜設(shè)備
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特點(diǎn):
1.低溫成膜。溫度對基材影響小,不會產(chǎn)生變形;適用于PET、PI等基材卷材薄膜;2.膜厚可設(shè)計。通過工藝調(diào)整,可自行設(shè)計沉積較薄或較厚的鍍膜層;3.多個靶位設(shè)計,工藝靈活。整機(jī)可裝八文靶,既可用單質(zhì)金屬靶材也可用化合物、氧化物靶材,可制備單一結(jié)構(gòu)的單層膜,也可制備復(fù)合結(jié)構(gòu)的多層膜,工藝非常靈活
設(shè)備可制備電磁屏蔽膜、柔性線路板鍍膜、各種介質(zhì)膜、多層結(jié)構(gòu)AR減反膜、HR高反膜、彩膜等,設(shè)備適用范圍非常廣范,一次走膜即可完成單層膜沉積。
設(shè)備可采用單質(zhì)金屬靶材如A1、C、Cu、Fe、N、SUS、TIA等,或化合物靶材如Si02、Si3N4、AI203、Sn02、Zn0、Ta205、ITO、AZ0等。
設(shè)備尺寸小,結(jié)構(gòu)設(shè)計緊湊,占地面積小,能耗低,調(diào)整靈活,非常適用工藝、產(chǎn)品研發(fā)或小批量量產(chǎn)的需求。
立式磁控濺射彩膜生產(chǎn)線
立式多功能鍍膜生產(chǎn)線
臥式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線
氫能源雙極板連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線
一體式磁控蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
實(shí)驗(yàn)型濺射鍍膜設(shè)備
化學(xué)氣相沉積設(shè)備
科研專用小型卷繞鍍膜設(shè)備
實(shí)驗(yàn)型卷繞鍍膜設(shè)備
熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
抗氧化CVD鍍膜設(shè)備
真空清洗設(shè)備