粉體行業(yè)在線展覽
單片晶圓濕式工藝設(shè)備
面議
北京科翰龍
單片晶圓濕式工藝設(shè)備
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采用單片晶圓濕式工藝設(shè)備,適用于2"-6"晶圓、4″- 8″晶圓、8″- 12″晶圓。
工藝過程可編程,適應(yīng)于晶圓*終清洗、投片前清洗、晶圓刻蝕等不同工藝
可對正面及背面同時進行清洗或腐蝕
采用雙手指機械臂傳送晶圓
采用雙面無基礎(chǔ)清洗載物臺
配備雙面PVA刷洗功能
配備藥液控溫單元
配備自動配藥單元
可選配兆聲單元
可選配自動滅火單元
全自動IC料條打碼機
晶圓倒角機WGM-600
多功能IC料條打碼機
晶圓邊形輪廓儀
自動晶圓磨邊倒角機
晶圓最終清洗設(shè)備
單片晶圓濕式工藝設(shè)備
晶圓打碼機WM-600/800/1200
超潔晶圓打碼機WM-SC800SMIF
超潔晶圓打碼機WM-SC1200FOUP
晶圓修邊設(shè)備