粉體行業(yè)在線展覽
氣相沉積爐
面議
辰星真空
氣相沉積爐
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產(chǎn)品概述:
氣相沉積爐可用于在特定壓力下將金屬鹵化物、金屬有機(jī)物、碳?xì)浠衔锏确磻?yīng)源加熱氣化后在目標(biāo)材料表面反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的設(shè)備。也用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積,如C/C復(fù)合材料、SiC復(fù)合材料等的CVD、CVI處理。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1)在中溫或高溫下,通過(guò)氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。
2)可以在常壓或者真空條件下(負(fù)壓“進(jìn)行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好)。
3)采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),使沉積可在較低的溫度下進(jìn)行。
4)涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
5)可以控制涂層的密度和涂層純度。
6)繞鍍件好??稍趶?fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好,所以可涂覆帶有槽、溝、孔,甚至是盲孔的工件。
7)沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu),不耐彎曲,但可通過(guò)各種技術(shù)對(duì)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行氣相擾動(dòng),以改善其結(jié)構(gòu)。
8)可以通過(guò)各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。
略
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