粉體行業(yè)在線展覽
面議
5445
--
退火溫度均勻性: | ±2.0℃ | 退火溫度準(zhǔn)確性: | ±2.0℃ |
降溫速率: | 30℃/s | **升溫速率: | 50℃/s |
溫度范圍: | 室溫~1200℃ | 樣品尺寸: | 2英寸 |
產(chǎn)地類別: | 進(jìn)口 | 儀器種類: | 高真空快速退火爐 |
價格區(qū)間: | 10萬-30萬 |
快速熱處理(RTP)已經(jīng)成為半導(dǎo)體、鐵電體以及鍍膜行業(yè)的重要退火技術(shù)。但是目前,只有大型的、昂貴的生產(chǎn)設(shè)備才能完成快速熱處理,這大大降低了研發(fā)工作的效率(尤其是小的樣品)。為了滿足市場的需求,ADVANCE RIKO研發(fā)出MILA-5000系列的小型快速退火爐。此系列的設(shè)備包含紅外金面反射爐和高精度的溫度控制器。根據(jù)需求選配相應(yīng)的泵和氣體接口,MILA能提供與大型RTP設(shè)備相同的熱處理性能。
特點:
l 快速加熱及冷卻能力;
l 可在任意氣氛中使用;
l 實時觀測試樣;
l 精確的溫度控制;
型號 | MILA-5000Series |
溫度范圍: | 室溫~1200℃ |
加熱功率: | 50℃/s(50~1200℃)真空 45℃/s(50~1200℃)氮氣氛圍 |
溫度均勻性: | ±2.0℃(ΔT=4℃)1200℃真空 ±4.5℃(ΔT=9℃)1200℃氮氣氛圍 |
加熱氣氛: | 大氣、真空、惰性氣氛環(huán)境下 |
試樣尺寸: | MAX:50 square or φ 50 x T5 (mm) |
程序模組: | 溫度VS時間設(shè)定、Step數(shù)256、Program數(shù)32(Max); PID+Fuzzy控制、自動微調(diào)、USB通訊、自動/手動切換; |
SPS-
SAL1000G
SERSTECH
SPS-
Nanonics MV2500
HFM-100
Nanonics