粉體行業(yè)在線展覽
面議
2000
主要用于電子行業(yè)陶瓷金屬化表面處理,粉末冶金的氫氣氣氛燒結(jié),材料無氧化熱處理、表面凈化處理等領(lǐng)域。
主要技術(shù)參數(shù):
▲**溫度:1100—1650℃ ▲預(yù)抽真空度:10Pa ▲均溫區(qū)溫差:±5℃(真空/氣氛)
▲控溫精度:±1℃ ▲氣氛:氫氣、氮?dú)?/span> ▲冷卻方式:自然冷卻、氫氣外循環(huán)快冷
▲控制方式:手動(dòng)+程序自控▲設(shè)備結(jié)構(gòu):立式或臥式
設(shè)備構(gòu)成
▲爐體(鉬制爐膽及加熱體) ▲升降機(jī)構(gòu) ▲平臺(tái) ▲底盤(鉬制料架)▲預(yù)抽真空系統(tǒng) ▲充氣快冷系統(tǒng)▲水冷系統(tǒng) ▲氣動(dòng)系統(tǒng) ▲自動(dòng)控制系統(tǒng) ▲計(jì)算機(jī)系統(tǒng)
主要用途
本設(shè)備主要用于電子行業(yè)陶瓷金屬化表面處理,粉末冶金的氫氣氣氛燒結(jié),材料無氧化熱處理、表面凈化處理等領(lǐng)域。
陶瓷金屬化爐常用產(chǎn)品規(guī)格 | ||
參數(shù)\型號(hào) | ZK-500 | ZK-600 |
工作區(qū)尺寸φ×L(mm) | φ500×800 | φ600×900 |
裝載重量(kg) | 500 | 600 |
**溫度(℃) | 1100--1600 | 1100--1600 |
溫度均勻性(℃) | ±5 | ±5 |
加熱功率(kW) | 200 | 230 |
工作環(huán)境 | H2,N2 | H2,N2 |
極限真空度(Pa) | 1000Pa | 1000Pa |
壓升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 |
略
略
VSF-V 石英槽沉爐
HBOX-1200
真空感應(yīng)銅舟爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
YSJ-171212
JRF 系列
GZZ系列
鋼帶傳動(dòng)隧道式電阻爐