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面議
1691
nanoArch S130微納3D打印機(jī)由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印模型分層投影至樹(shù)脂液面,快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前**有前景的微尺度加工技術(shù)之一。
基本參數(shù)
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:硬性樹(shù)脂、耐高溫樹(shù)脂、韌性樹(shù)脂、生物兼容性樹(shù)脂等
光學(xué)精度:2μm
打印層厚:5-20μm
打印尺寸:
①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)
②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)
③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復(fù)陣列模式)
文件格式:STL
設(shè)備功率:3000W
系統(tǒng)外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量:450kg
電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW
應(yīng)用領(lǐng)域:
可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域
企業(yè)簡(jiǎn)介:
摩方材料是一家專(zhuān)注于高精密微納3D打印系統(tǒng)及材料的高新技術(shù)企業(yè),其業(yè)務(wù)涵蓋高精密3D打印設(shè)備的研發(fā)及生產(chǎn)、高精密3D打印定制化產(chǎn)品服務(wù)、高精密3D打印原材料的研發(fā)及生產(chǎn)、高精密3D打印工藝設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)及相關(guān)技術(shù)服務(wù),擁有較為完整的高精密微納3D打印產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。
作為微納3D打印的先行者和***,在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微加工領(lǐng)域,摩方團(tuán)隊(duì)擁有超過(guò)二十年的科研及工程實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。
產(chǎn)品咨詢(xún)
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