粉體行業(yè)在線展覽
PECVD
面議
鴻浩半導體
PECVD
490
核心技術(shù):
多站式(Multi-Stantion)設(shè)計,系統(tǒng)具有優(yōu)異的膜厚均勻性;
模組化機臺設(shè)計能夠針對客戶的需求做設(shè)計;
射頻功率設(shè)計,使反應物能在低溫的狀態(tài)下達到高速率的沉積,進而提高產(chǎn)能;
先進性:
具有多站式(Multi-Stantion)設(shè)計,能夠?qū)崿F(xiàn)高重復性,使薄膜沉積的更加均勻;
優(yōu)化RF功率,使薄膜應力及反射率達到**數(shù)值