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反射式高能電子衍射儀

直接聯(lián)系

濱州創(chuàng)元設(shè)備機(jī)械制造有限公司(現(xiàn)北京創(chuàng)元)

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號
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面議

關(guān)注度:

583

產(chǎn)品介紹

反射高能電子衍射儀(Reflection High-Energy Electron Diffraction)是觀察晶體生長*重要的實時

監(jiān)測工具。它可以通過非常小的掠射角將能量為10~30KeV的單能電子掠射到晶體表面,通過衍射斑

點獲得薄膜厚度,組分以及晶體生長機(jī)制等重要信息。因此反射高能電子衍射儀已成為MBE系統(tǒng)中

監(jiān)測薄膜表面形貌的一種標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)。

  R-DEC公司生產(chǎn)的反射式高能電子衍射儀,以便于操作者使用的人性化設(shè)計,穩(wěn)定性和耐久性以

及擁有高亮度的衍射斑點等特長得到日本國內(nèi)及海外各研究機(jī)構(gòu)的一致好評和認(rèn)可。

特長

◆可遠(yuǎn)程控制調(diào)節(jié)電壓,束流強(qiáng)度,聚焦位置以及光束偏轉(zhuǎn)

◆帶有安全閉鎖裝置

◆鎳鐵高導(dǎo)磁合金磁屏蔽罩

◆擁有高亮度衍射斑點

◆電子槍內(nèi)表面經(jīng)特殊處理,能實現(xiàn)極低放氣率

◆經(jīng)久耐用,穩(wěn)定可靠

◆符合歐盟RoHS指令

  低電流反射高能電子衍射儀(Low Emission Reflection High-Energy Electron Diffraction)是利用微通道板技

術(shù),大幅減少對樣品損傷的同時,并且保證明亮反射電子衍射圖像的新一代低電流反射高能電子衍射儀??梢杂糜谟袡C(jī)薄膜材料等結(jié)晶結(jié)構(gòu)的分析研究。

特長

◆大幅度減少電子束對樣品的損傷

(相當(dāng)于普通RHEED的1/500-1/2800)

◆帶有安全閉鎖裝置

◆搭載高亮度微通道板熒光屏

◆可搭載差動抽氣系統(tǒng)

◆kSA400 RHEED分析系統(tǒng)兼容

◆符合歐盟RoHS指令

產(chǎn)品咨詢

反射式高能電子衍射儀

濱州創(chuàng)元設(shè)備機(jī)械制造有限公司(現(xiàn)北京創(chuàng)元)

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反射式高能電子衍射儀 - 583
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