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EDAX Orbis 微束X射線熒光能譜儀(Micro XRF)

Orbis可以對(duì)各種類型、尺寸的樣品進(jìn)行先進(jìn)的無(wú)損元素分析，不需樣品制備，不需涂層。它可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同步的X射線檢測(cè)，含量靈敏度從百萬(wàn)分之幾到100%。用戶可以對(duì)小樣品進(jìn)行元素分析，如顆粒，碎片和夾雜物，也可以對(duì)大樣品進(jìn)行自動(dòng)多點(diǎn)和成像分析。

Orbis是一款臺(tái)式儀器，可以在空氣或低真空條件下，測(cè)量從Na到BK的元素。因?yàn)?span>X射線具有穿透力和較大的光斑，Orbis比掃描電子顯微鏡更適合分析較大特點(diǎn)的樣品。Orbis Vision 軟件強(qiáng)大易用，可提供精確的元素分析。

創(chuàng)新的X射線光學(xué)/視頻器件幾何設(shè)計(jì)

Orbis安裝了垂直于樣品的先進(jìn)的X射線光學(xué)器件和高質(zhì)量的視頻像機(jī)，適合更大范圍的樣品形狀。這種創(chuàng)新的設(shè)計(jì)提供了真正的“你所看到的就是你所分析的”的能力。由于X射線束的阻擋而導(dǎo)致的錯(cuò)誤測(cè)量，可以很容易地被檢測(cè)到。如果相機(jī)的視野受到阻擋，X射線也會(huì)受到阻擋。當(dāng)測(cè)量有地形的樣品時(shí)，可以消除X射線束的陰影。此外，在儀器設(shè)計(jì)的工作距離外，定性分析更容易。

廣泛的應(yīng)用

Orbis適合各種應(yīng)用，包括刑事取證、工業(yè)質(zhì)量控制和無(wú)損檢測(cè)，還有材料、電子和地質(zhì)樣品分析。

Orbis 型號(hào)

Orbis有兩個(gè)型號(hào)：Orbis SDD 和 Orbis PC SDD。兩個(gè)型號(hào)都使用Orbis Vision 軟件，都有多個(gè)選項(xiàng)，覆蓋廣泛的需要高精度非破壞性元素分析的應(yīng)用。

Orbis SDD X射線熒光能譜儀

Orbis SDD X射線熒光能譜儀非常適合需要分析大顆?；虼筇卣鞯膽?yīng)用，例如刑事取證和工業(yè)質(zhì)量控制。該儀器配備行業(yè)**的電制冷探測(cè)器（SDD）和10倍/100倍彩色攝像機(jī)，配備了300μM單毛細(xì)管光學(xué)器件，入射束過(guò)濾系統(tǒng)，精密電動(dòng)XYZ樣品臺(tái)和DPP分析器。

Orbis的設(shè)計(jì)消除了樣品地形阻礙X射線束帶來(lái)的不正確樣品分析。

標(biāo)準(zhǔn)配置：

● 銠管（50kV，50W）

● 300μM單毛細(xì)管光學(xué)器件

● 自動(dòng)入射束濾光系統(tǒng)（打開(kāi)位置，6個(gè)過(guò)濾器，快門(mén)）

● 雙CCD相機(jī)：10×，彩色；100x，彩色

● 先進(jìn)的30mm2電制冷探測(cè)器（SDD）

● 精密電動(dòng)XYZ樣品臺(tái)

● 樣品室：真空或空氣

● 電子數(shù)字信號(hào)分析儀

● 操作軟件：自動(dòng)分析和定量程序，包括：

　1. 有標(biāo)樣或無(wú)標(biāo)樣基本參數(shù)分析

　2. 使用基本參數(shù)分析在輕元素矩陣中進(jìn)行痕量元素分析

　3. 使用標(biāo)樣校準(zhǔn)進(jìn)行半經(jīng)驗(yàn)分析

選項(xiàng)：

● 樣品室視窗（124mm × 124mm可視范圍）

● 先進(jìn)的50mm2硅漂移探測(cè)器（SDD）

● 鉬管（50kV，50W）

● 100μM單毛細(xì)管光學(xué)器件（替代300μM單毛細(xì)管光學(xué)器件）

● 與單毛細(xì)管光學(xué)器件連接的自動(dòng)準(zhǔn)直儀（1 mm和2 mm），通過(guò)軟件控制選擇

● 軟件：譜面分布，圖像處理，線掃描，涂層分析，譜匹配，合金識(shí)別和離線數(shù)據(jù)處理軟件

Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀

Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀是Orbis SDD的升級(jí)版，非常適合分析小樣本或快速測(cè)量。該儀器配備先進(jìn)的電制冷探測(cè)器（SDD），帶3倍數(shù)碼變焦的增強(qiáng)彩色攝像機(jī)，和一個(gè)30微米的多毛細(xì)管光學(xué)器件。Orbis PC SDD的樣品定位器采用升級(jí)的XYZ樣平臺(tái)，具有更高的定位精度。

標(biāo)準(zhǔn)配置：

● 銠管（50kV，50W）

● 30μM超高強(qiáng)度多毛細(xì)管光學(xué)器件(FWHM @ MoKα)

● 自動(dòng)入射束濾光系統(tǒng)（打開(kāi)位置，6個(gè)過(guò)濾器，快門(mén)）

● 雙CCD相機(jī)：10×，彩色；75×，彩色，帶3×數(shù)字變焦

● 先進(jìn)的30mm2硅漂移探測(cè)器（SDD），無(wú)需液氮致冷

● 高精密電腦控制XYZ樣品臺(tái)

● 樣品室：真空或空氣

● 電子數(shù)字信號(hào)分析儀

● 操作軟件：自動(dòng)分析和定量程序，包括：

　1. 有標(biāo)樣或無(wú)標(biāo)樣基本參數(shù)分析

　2. 使用基本參數(shù)分析在輕元素矩陣中進(jìn)行痕量元素分析

　3. 使用標(biāo)樣校準(zhǔn)進(jìn)行半經(jīng)驗(yàn)分析

選項(xiàng)：

● 樣品室視窗（124mm × 124mm可視范圍）

● 先進(jìn)的50 mm2硅漂移探測(cè)器（SDD）

● 鉬管（50kV，50W）

● 與單毛細(xì)管光學(xué)器件連接的自動(dòng)準(zhǔn)直儀（1 mm和2 mm），通過(guò)軟件控制選擇

● 軟件：譜面分布，圖像處理，線掃描，涂層分析，譜匹配，合金識(shí)別和離線數(shù)據(jù)處理軟件

骨化石Ca-P-Si元素面分布圖，使用紅、綠和藍(lán)色混合器創(chuàng)建覆蓋。