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多功能平臺(tái)聚焦掃描微區(qū)X射線光電子能譜儀

直接聯(lián)系

濱州創(chuàng)元設(shè)備機(jī)械制造有限公司(現(xiàn)北京創(chuàng)元)

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

635

產(chǎn)品介紹

儀器簡(jiǎn)介:

2006年12月一推出,立刻受到高??蒲袉挝粴g迎。

國(guó)內(nèi)用戶有 南京大學(xué)分析中心 上海師范大學(xué) 天津46所

技術(shù)參數(shù):

3、儀器主機(jī)功能與附件功能

3.1 單色化XPS,Al Kα,包括:

大面積XPS、小面積XPS、成像XPS、深度剖析XPS和角分辨XPS。

3.2 雙陽極XPS,Mg/Al Kα

3.3 紫外光電子能譜,UPS

3.4 高壓反應(yīng)室

3.5 分析室樣品冷/熱臺(tái)

4、儀器主要部件

4.1 超高真空分析室

180度半球能量分析器,

電子透鏡傳輸系統(tǒng),

16多通道電子檢測(cè)器

分子泵,離子泵,鈦升華泵

   單色化XPS (AlKα)系統(tǒng),含內(nèi)循環(huán)水冷卻裝置,

XPS成像系統(tǒng),

雙陽極XPS系統(tǒng),冷卻循環(huán)水和單色化系統(tǒng)共用

紫外光源,

荷電中和系統(tǒng),用于絕緣樣品或?qū)щ娦圆畹臉悠返暮呻娧a(bǔ)償,

5軸樣品臺(tái),

標(biāo)準(zhǔn)樣品托 2個(gè)

Recessed樣品托 1個(gè)

氬離子槍,用于深度剖析,

熱雙燈絲離子規(guī),

閉路電視顯微彩色攝像系統(tǒng)和SXI成像系統(tǒng),

分析室和進(jìn)樣室都有獨(dú)立光纖照明系統(tǒng),

可觀察視窗,視窗直徑10cm左右,

樣品熱/冷臺(tái),溫度可監(jiān)測(cè)。

4.2 樣品進(jìn)樣室

機(jī)械泵,分子泵 熱雙燈絲離子規(guī),

可觀察視窗,視窗直徑10cm左右。

空氣壓縮機(jī)一臺(tái),國(guó)內(nèi)采購

4.3 石英高壓反應(yīng)池

程序控溫系統(tǒng)

真空監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

真空泵系統(tǒng)

進(jìn)出氣系統(tǒng),參考南京大學(xué)用戶設(shè)計(jì)建議。

壓力 一個(gè)大氣壓

全石英底座

密封材料 Byton O-ring

**溫度 600度

遠(yuǎn)紅外線加熱控溫系統(tǒng)

單獨(dú)石英反應(yīng)器冷卻系統(tǒng)

4 樣品磁耦合傳輸系統(tǒng)

4.5 真空烘烤系統(tǒng)

4.6 主機(jī)系統(tǒng)集成,減震裝置。

4.7 計(jì)算機(jī)系統(tǒng),含數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理軟件包。

4.8 與以上所有系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)的電子學(xué)控制柜。

5、儀器主要技術(shù)參數(shù)與要求

5.1 儀器主機(jī)功能,單色化Al Kα

5.1.1 大面積XPS

Ag3d5/2,1400umx100um, FWHM≤1.00eV時(shí),靈敏度≥1,000,000 cps。

Ag3d5/2,1400umx100um, FWHM≤0.60eV時(shí),靈敏度≥250,000 cps。

5.1.2 小面積XPS,*小分析面積≤10μm ,性能指標(biāo)應(yīng)達(dá)到:

Ag3d5/2,20μm, FWHM≤0.60eV時(shí),靈敏度≥15,000 cps。

Ag3d5/2,10μm, FWHM≤0.60eV時(shí),靈敏度≥4,000 cps。

Ag3d5/2,10μm, FWHM≤1.00eV時(shí),靈敏度≥12,000 cps。

Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree

75degree

Ag3d5/2,20μm , FWHM≤0.90eV時(shí),靈敏度≥ 99kcps

Ag3d5/2,100μm , FWHM≤0.90eV時(shí),靈敏度≥ 47kcps

45degree

Ag3d5/2,20μm , FWHM≤0.90eV時(shí),靈敏度≥ 50kcps

Ag3d5/2,100μm , FWHM≤0.90eV時(shí),靈敏度≥ 27kcps

5.1.3 成像XPS

單色化X射線掃描成像,**空間分辨率≤10 μm。

5.1.4 深度剖析XPS

聚焦掃描氬離子槍,當(dāng)working distance為30 mm時(shí).聚焦氬離子束斑≤150μm,當(dāng)

working distance為60mm時(shí)候,聚焦氬離子束斑≤300μm束流密度≥0.5 mA/cm2。

5.2 儀器附件功能

5.2.1 雙陽極XPS,MgKα,Ag3d5/2,F(xiàn)WHM≤1.40eV時(shí),靈敏度≥1,000,000 cps。

5.2.2 紫外光電子能譜(UPS)

(a) 光源:He紫外光源,HeI:HeII=3:1

(b) 性能指標(biāo):分辨率(Ag費(fèi)米邊)≤120 meV時(shí),靈敏度(Ag4d)≥2,000,000 cps。

(c) *小步長(zhǎng):5meV

5.2.3 高壓反應(yīng)室

(a) 材質(zhì):石英

(b) 內(nèi)膽內(nèi)壓強(qiáng):≥760Torr

(c) **溫度,≥600℃

(d) 氣體混合倉附計(jì)量裝置,包括壓力表、流量計(jì)和針閥等。

5.2.4 分析室樣品冷/熱臺(tái),溫度:170 K–600 K,溫度可檢測(cè),加熱PID控制。

5.3 儀器主要部件參數(shù)與要求:

5.3.1 能量分析器

(a) 類型:半球能量分析器

(b) XPS能量范圍: 0–1600 eV(25 meV)

UPS :0~320 eV(5 meV)

5.3.2 超高真空分析室

(a) SUS材質(zhì)內(nèi)表面經(jīng)過特殊處理

(b) 真空:小于6.7×10-10 mbar

5.3.3 樣品進(jìn)樣室

(a) 材質(zhì):非磁性不銹鋼材料

(b) 真空:小于6.7×10-9 mba

5.3.4 深度剖析氬離子槍

100eV–5keV,連續(xù)可調(diào),掃描型。

5.3.5 荷電中和系統(tǒng):雙槍中和系統(tǒng)。

5.3.6 樣品控制臺(tái)

(a) 軸向:5軸,

(b) 移動(dòng):各向移動(dòng)距離必須與樣品臺(tái)尺寸相匹配,步進(jìn)步長(zhǎng)小于1μm,

(c) 傾斜:0–90°

5.3.7 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)

(a) Pentium IV,CPU主頻3.0GHz左右;

(b) 內(nèi)存2G, 硬盤250 G;

(c) 2個(gè)DVD/CD-RW Combo光盤驅(qū)動(dòng)器,

(d) 22" 液晶平板顯示器;

(e) 4個(gè)USB2.0接口;

(f) 100M以上以太網(wǎng)接口,用于數(shù)據(jù)傳輸;

(g) 預(yù)裝Windows XP正版軟件;

( h ) 預(yù)裝儀器操作軟件和數(shù)據(jù)分析軟件(含**的XPS數(shù)據(jù)庫),附安裝軟件光盤;

主要特點(diǎn):

1.世界上****掃描微聚焦X-射線source

2..世界上****掃描微聚焦X-射線產(chǎn)生的2次電子成像SXI像和XPS成像,可以幫助客戶找到肉眼看不見的微觀缺陷。

3??梢越o出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um 的XPS sensitivity是其他公司同類產(chǎn)品的1倍以上。

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多功能平臺(tái)聚焦掃描微區(qū)X射線光電子能譜儀

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