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德國Eulitha高分辨紫外光刻機(jī)PhableR 100

科研/生產(chǎn)兼用

簡(jiǎn)介：

PhableR 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù)，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點(diǎn)：

· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設(shè)備

· 操作簡(jiǎn)單、工作穩(wěn)定，兼容科研及批量生產(chǎn)

· 納米周期性圖案解決方案

優(yōu)勢(shì)：

· 大面積圖形化設(shè)備：適用4、6、8寸襯底

· 高曝光效率：非步進(jìn)式曝光，無拼接，單次全場(chǎng)曝光實(shí)現(xiàn)整片圖形化

· 高精度：光學(xué)衍射自成像原理，突破傳統(tǒng)曝光精度極限

· 非接觸式曝光

· 設(shè)備沒有景深限制，曝光過程無需對(duì)焦

· 雙工作模式（UV375機(jī)型）：高分辨模式（周期性納米-微米結(jié)構(gòu)），一般紫外光刻模式（非周期結(jié)構(gòu)）

· 設(shè)備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據(jù)客戶的圖形，提供工藝技術(shù)支持。

技術(shù)指標(biāo)：

光源 UV375nm DUV266nm DUV193nm

分辨率 125nm 75nm 62nm

周期范圍 250-3000nm 150-2500nm 125-2000nm

操作方式 手動(dòng)裝片-自動(dòng)曝光 參數(shù)設(shè)置 觸摸屏

基片尺寸 **4、6、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圓級(jí)光子學(xué)結(jié)構(gòu)的曝光工具

應(yīng)用：

· 圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）

· 光子晶體

· 磁性納米結(jié)構(gòu)

· 太陽能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術(shù)