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一、 產(chǎn)品應(yīng)用：

JS-1600M型磁控濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，*簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

二、 配置及技術(shù)指標(biāo)：

1. 本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50 mm

2. 主機(jī)規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm

3. 靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm

4. 真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm

5. 濺射面積： Ф50mm

6. 真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar

7. 離子電流表： **電流：100mA

8. 定時(shí)器： *長時(shí)間：3600S

9. 微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管

10. 可通入氣體： 多種

11. **電壓： -1600 DCV

12. 機(jī)械泵： 2L/S

三、 產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 輕便、濺射面積大

2. 可以濺射鉑、金及銀等金屬

3. 濺射效率高，可水冷降溫