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儀器簡(jiǎn)介：

又名：掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)等；

全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；依優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

相關(guān)設(shè)備：

甩膠機(jī)，甩膜機(jī)，涂膠機(jī)，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，勻膜機(jī)，清洗機(jī)，顯影機(jī)等；

技術(shù)參數(shù)：

基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他要求支持；

光束均勻性：<±3%；

曝光時(shí)間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒；

對(duì)準(zhǔn)精度：1微米，**0.5微米；

分辨率：1微米；

光束輸出強(qiáng)度：15-25mW/cm2；

主要特點(diǎn)：

光源強(qiáng)度可控；

紫外、深紫外曝光；

系統(tǒng)控制：手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制；

曝光模式：真空接觸模式（接觸力可調(diào)），Proximity靠近模式， 投影模式；

真空吸盤范圍可調(diào)；

**技術(shù)：雙面對(duì)準(zhǔn)！

雙重顯微鏡系統(tǒng)，**放大1600倍；