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PLUTO-M型等離子體表面處理系統(tǒng)是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息，分析應用需求，將多年設計和制造經(jīng)驗應用于小型化，多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念，零配件的選用，都傾注大量精力。

針對用戶不同的需求，我們提供對應配件，在獲得常規(guī)性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。

產(chǎn)品特點：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設計，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強度，極大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設備穩(wěn)定高效運行

樣品處理面積可達125mm（處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）

4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設置多種實驗參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障

產(chǎn)品參數(shù):

1.真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體，直徑210mm*(深)230mm 約4L

2.電極：兩個自適應平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金

3.電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4.等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5.功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W

6.氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體

7.控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，

可顯示設置值與實際值，便于實時控制。

可自由設置等離子功率，通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8.保護裝置：一鍵急停保護按鈕