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EXACTUS?光學(xué)高溫計(jì)主要設(shè)計(jì)用于OEM晶圓溫度測(cè)量應(yīng)用，在非接觸式溫度測(cè)量方面具有顯著的性能優(yōu)勢(shì)。許多正在申請(qǐng)的**涵蓋了這些突破，這些突破在準(zhǔn)確性、可重復(fù)性和穩(wěn)定性方面具有行業(yè)**的性能。我們的性能優(yōu)勢(shì)使我們能夠成功地測(cè)量許多應(yīng)用中的過(guò)程

EXACTUS?光學(xué)高溫計(jì)主要設(shè)計(jì)用于OEM晶圓溫度測(cè)量應(yīng)用，在非接觸式溫度測(cè)量方面具有顯著的性能優(yōu)勢(shì)。許多正在申請(qǐng)的**涵蓋了這些突破，這些突破在準(zhǔn)確性、可重復(fù)性和穩(wěn)定性方面具有行業(yè)**的性能。我們的性能優(yōu)勢(shì)使我們能夠成功地測(cè)量許多應(yīng)用中的過(guò)程

EXACTUS?提供：

• 使用短波長(zhǎng)進(jìn)行低溫測(cè)量（25°C 或更高）

• 使用 200nm 紅外輻射測(cè)量低至 900°C 的單晶硅

• 精度高，分辨率高達(dá)0.001°C，精度高達(dá)1.5°C

• 速度高達(dá)每秒 1，000 個(gè)讀數(shù)

• 在任何給定波長(zhǎng)下具有寬動(dòng)態(tài)范圍

• 測(cè)溫重復(fù)性 0.1 oC , 溫漂不高于 0.1 oC 

• 精密度高, 分辨率達(dá) 0.01 oC , 測(cè)溫精度1.5 oC

典型應(yīng)用

硅晶生長(zhǎng)	薄膜沉積
激光/感應(yīng)焊接	玻璃加工
工業(yè)加熱