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VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
產(chǎn)品名稱 | VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機(jī) | |
主要特點(diǎn) | 1、磁控濺射和電阻蒸發(fā)雙應(yīng)用。本機(jī)采用可磁控濺射與電阻蒸發(fā)免拆卸轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu),可快速實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。 2、桌面小型一體化結(jié)構(gòu)。本機(jī)對(duì)真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進(jìn)行整合設(shè)計(jì),體積與一臺(tái)A3 打印機(jī)相仿(不包含真空機(jī)組,480x320x460mm,寬X 高X 深) 3、單、三靶濺射。本機(jī)的磁控濺射單元裝有三支2 英寸磁控靶或一支3 英寸磁控靶。以適應(yīng)不同用戶的需求。三靶濺射單元裝有靶擋板及靶切換半開關(guān),并與擋板聯(lián)動(dòng)。 4、高性能開關(guān)式直流濺射電源。本機(jī)配裝我公司自行研制的高性能濺射用直流電流,由于采用開關(guān)電源所以對(duì)濺射過(guò)程中產(chǎn)生的弧光放電具有非常強(qiáng)的抑制作用;電源還具有恒流和恒功率兩種濺射工作方式,以適用不同用 戶的需求。 5、雙蒸發(fā)源。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源,適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。 6、高穩(wěn)定度恒流蒸發(fā)電源。本機(jī)配裝0.1%精度蒸發(fā)電源,并具有恒流輸出功能,對(duì)蒸發(fā)舟能起到很好的保護(hù)作用。 7、鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機(jī)可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀,在鍍膜過(guò)程中可對(duì)鍍膜速率和膜層厚度進(jìn)行控制。 8、數(shù)據(jù)記錄。鍍膜機(jī)可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U 盤,便于用戶分析控制(選配)。 9、模塊化設(shè)計(jì)。本機(jī)將所有功能單設(shè)計(jì)成標(biāo)準(zhǔn)化模塊,根據(jù)用戶不的需求對(duì)相應(yīng)模塊進(jìn)行組合。以達(dá)到**化的鍍膜環(huán)境。并便于用戶維修與維護(hù)。 10、圖形化操作界面及觸屏控制。本機(jī)操作控制采用7 英寸TFT 顯示屏顯示操作界面,觸屏操作,實(shí)現(xiàn)全圖形化界面,易用易懂。 | |
技術(shù)參數(shù) | 1、濺射靶規(guī)格: 2 英寸/3 支(帶擋板)或3 英寸1 支 | |
2、蒸發(fā)電源功率: 1000W/5V/200A 3、蒸發(fā)電極有效距離: 55mm | ||
4、樣品臺(tái)規(guī)格: 直徑150mm(可選配旋轉(zhuǎn)、擋板和偏壓功能) | ||
5、供電電壓: AC220V/2000W 6、濺射電源功率: 500W/600V 7、膜厚測(cè)量精度: 0.1? 或0.01?(高精度型) 8、充氣流量: 50SCCM/100SCCM(兩路選配) 9、氣源壓力: <0.15KPa 10、外接真空機(jī)組: 2 升(AC220V)可選配國(guó)產(chǎn)擴(kuò)散泵機(jī)組、國(guó)產(chǎn)機(jī)組或進(jìn)口機(jī)組。 11、真空接口規(guī)格: KF40 12、極限真空度: >2.0x10-3Pa、2.0x10-4Pa 13、工作真空度: 3~0.5Pa(磁控) 14、冷卻水壓力: 0.2~0.4Kpa 15、使用環(huán)境溫度: <35℃ 16、使用環(huán)境濕度: <75%(相對(duì)濕度)不結(jié)露 17、使用環(huán)境海拔: <1500m | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、外型尺寸: 480x320x460(寬x 高x 深)不包含真空泵 2、重量: 約47Kg 不包含真空泵 |
定制5臺(tái)機(jī)連體配套
SEM5000X
防爆觸摸屏/防爆電腦/防爆電腦
金屬回收系統(tǒng)
熱風(fēng)循環(huán)烘箱CT-C系列
自動(dòng)吸盤振動(dòng)器離心式G08T
酒精回收塔
低溫催化LCO
干燥機(jī)控制
智能控制系統(tǒng)
PicoFemto掃描電鏡原位光電力一體化系統(tǒng)
PROMETHEUS